目前，DNP已实现2nm以后逻辑半导体用EUV光刻掩模版所需的精细图案分辨率，并完成了支持High-NA的EUV光掩模版的开发，该光掩模版被考虑用于2nm以后的下一代半导体，并已完成EUV光掩模版的标准评估，并开始提供样品掩模版。

台积电将建设 1nm超级晶圆厂 与此同时，早前消息披露，台积电已经在中国台湾组件团队，加快1纳米研发。公司也计划在台湾建设1纳米的超级晶圆厂。

台积电近期公布了一项重大投资决策，计划在中国台湾台南市沙仑地区兴建一座全新的晶圆厂，该厂将采用业界领先的1nm工艺 ...

台积电正考虑在台湾南部的沙仑地区兴建一座采用最先进1nm制程技术的晶圆厂。 据悉，这座晶圆厂预计将是一座规模宏大的超大型晶圆厂（Giga-Fab ...