来自MSN2 个月
Lam Research通过干法光刻胶技术实现28nm间距的高分辨率图案化
雄心勃勃的下一代设备路线图需要直接印刷 28 nm 间距 BEOL 以实现扩展。 在 imec，Lam 的 28 nm 间距干光刻胶工艺与低 NA EUV 扫描仪配对，并可扩展到高 ...