这一技术的突破，不仅有望帮助中国绕开欧美的技术封锁，减少对稀有气体的依赖，还能在一定程度上降低能耗。然而，值得注意的是，这一技术目前仍处于实验室阶段，距离真正应用于光刻机还有一定的距离。该技术生产出的光源在输出功率和频率上，也还无法与现有技术相媲美， ...

现在国人最关心的就是何时能攻克EUV光刻机,这是我们科技发展征途上的唯一拦路虎,所谓的科技战真正能掐脖子的只有EUV光刻机了，只有造出了EUV光刻机，全国人民才能安心，关键时刻还得看华为。

EUV技术自从其提出以来，面临着多重挑战，包括高成本、复杂的光学系统以及需要在高精度下制造光罩等。然而，随着技术不断成熟，EUV逐渐突破了制程限制，尤其在10nm及以下的制程中展现出了其不可替代的优势。

正是基于上述ASML EUV的深积淀与高壁垒，决定了其他厂商要想以同样的技术路线实现替代或者赶超几无可能，惟有另辟蹊径。而这也是近日佳能NIL和中国LDP技术路线在业内引起强烈反响和争论的主要原因。

IT之家 3 月 11 日消息，美光（Micron）于今年 2 月向英特尔（Intel）和 AMD 等客户交付 1γ（gamma）DDR5 样品，成为内存行业中首家实现这一突破的企业。韩媒 chosun 昨日（3 月 10 ...

虽然 EUV 有助于提高 HBM 堆栈的密度和图案化精度，但深紫外 (DUV) 光刻仍然在核心存储层中占主导地位。然而，随着 AI 工作负载的扩大，对超高带宽 ...

因此，我们看到，即使使用 EUV，LELE-SADP 也是生产具有四个布线轨道和两个宽轨道的 6 轨道单元的唯一选择。事实上，关键在于，DUV 可以生产完全 ...

众所周知，全球最牛的光刻机厂商是荷兰的ASML（阿斯麦），他垄断了全球100%的EUV(极紫外线）光刻机，也垄断了全球85%以上的 ...

自2019年首批商用EUV芯片问世以来，设备迭代、掩模生成和光刻胶技术的持续改进已使该技术趋于稳定。尽管良率持续提升，但与成熟度更高的深紫外（DUV）光刻相比仍存在显著差距。工艺稳定性需要持续监控与微调，而发电设备、专用设备及耗材方面的高额投入 ...

第二，维修服务成新战场。随着现有设备基数的扩大，ASML光刻机的维护费用已占年营收的15%。而北京维修中心的建立，意味着未来中国客户不必再将故障部件送回荷兰，省下的不仅是时间，更是美国随时可能掐断的物流通道。

在设备销售方面，ASML全年共售出418台光刻机，其中包括44台极紫外（EUV）光刻机和374台深紫外（DUV）光刻机。此外，公司还交付了165台计量与检测 ...