在全球半导体行业面临技术壁垒和地缘政治压力的背景下，华为在芯片制造领域再次传来重大消息。据多方消息来源透露，华为已开始在其东莞工厂测试一款国产的极紫外光刻（EUV）芯片制造设备。如果测试顺利，这项技术突破可能使华为和中国的半导体产业在不依赖荷兰光刻巨 ...

现在国人最关心的就是何时能攻克EUV光刻机,这是我们科技发展征途上的唯一拦路虎,所谓的科技战真正能掐脖子的只有EUV光刻机了，只有造出了EUV光刻机，全国人民才能安心，关键时刻还得看华为。

当前，欧洲一家领先的科技试验线正在公开征集下一代10纳米和7纳米FD-SOI技术的设计项目。FD-SOI技术在欧洲处于世界领先水平，其具备的超低功耗能力，适用于数字、模拟和射频（RF）设计。在未来两年内，若能从现有的22纳米工艺技术，逐步过渡到高产量的300毫米晶圆上的10纳米工艺，进而迈向7纳米工艺，无疑将显著增强欧洲半导体公司的竞争力。