Intel将会使用High-NA EUV光刻机生产14A也就是1.4nm级工艺产品 ，但具体时间和产品未定，有可能在2026年左右量产，或许用于未来的Nova Lake、Razer Lake。

但制造这些芯片严重依赖极紫外 (EUV) 光刻技术，这已成为扩大生产的最大障碍之一。自 2019 年首批商用 EUV 芯片下线以来，设备、掩模生成和光刻胶 ...

快科技2月26日消息，ASML Twinscan EXE:5000 EUV是当今世界上最先进的EUV极紫外光刻机，支持High-NA也就是高孔径，Intel去年抢先拿下了第一台，目前已经在 ...

快科技2月25日消息，Intel宣布，ASML首批两台高数值孔径（High-NA EUV）极紫光刻机已经在其工厂投入生产。初步数据显示，其效率、可靠性比上一代EUV ...

Extreme-ultraviolet (EUV) lithography at 13.5 nm is expected ... predicted in 1965 that the number of transistors on an integrated circuit chip would double every two years 1.

Yet unlike software, where industry leadership can shift in a matter of months, success in lithography is a slow-moving race ...

这是美光内存第一次用上EUV极紫外光刻工艺，而三星、SK海力士早就用了，不过美光这次同时还引入了下一代HKMG金属栅极技术，预计全新的BEOL后端 ...

【英特尔拿到的ASML高数值孔径EUV已投入生产】《科创板日报》25日讯，英特尔周一表示，去年率业界之先接收的两台ASML高数值孔径极紫外光EUV已投入 ...

It's the largest supplier of photolithography systems for optically etching circuit patterns onto silicon wafers. It's also the only producer of high-end extreme ultraviolet (EUV) lithography ...