在全球半导体行业面临技术壁垒和地缘政治压力的背景下，华为在芯片制造领域再次传来重大消息。据多方消息来源透露，华为已开始在其东莞工厂测试一款国产的极紫外光刻（EUV）芯片制造设备。如果测试顺利，这项技术突破可能使华为和中国的半导体产业在不依赖荷兰光刻巨 ...

Intel将会使用High-NA EUV光刻机生产14A也就是1.4nm级工艺产品 ，但具体时间和产品未定，有可能在2026年左右量产，或许用于未来的Nova Lake、Razer Lake。

(Bild: Zeiss SMT) Bei der EUV-Lithographie kommt extrem ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern zum ...

快科技2月25日消息，Intel宣布，ASML首批两台高数值孔径（High-NA EUV）极紫光刻机已经在其工厂投入生产。初步数据显示，其效率、可靠性比上一代EUV ...

EUV-Lithografie (Abkürzung für engl.: Extreme Ultra Violet), auch XUV-Lithografie (eXtreme Ultra Violet), ist ein Fotolithografie-Verfahren, das Licht mit Wellenlängen im Bereich von nur 13,5 ...

Das wäre ein riesiger Erfolg für das Land, denn bisher stellt ausschließlich ASML aus den Niederlanden EUV-Lithografie-Systeme in Serie her. Aufgrund von Exporteinschränkungen darf ASML solche ...