日本Rapidus公司宣布在北海道工厂计划部署10台EUV设备，并联合美国博通公司推进2nm芯片的量产，这一举措旨在重振日本本土的半导体制造能力。曾经的日本半导体产业辉煌一时，在全球市场占据重要份额。此次Rapidus的行动，是日本试图在半导体高端制 ...

快科技3月13日消息，据韩国媒体报道， 三 星电子已于本月初在其华城园区引入首台ASML生产的High-NA EUV光刻机——EXE:5000，价值高达5000亿韩元（约合24.88亿元人民币）。

IT之家 3 月 12 日消息，韩媒 FNnews 昨日（3 月 11 日）发布博文，报道称三星电子本月初在其华城园区引入了 ASML 生产的 High NA 极紫外光刻（EUV）设备，希望提升 2 纳米及以下制程的竞争力。ASML 的 High ...

英特尔此前就曾表示，High NA EUV光刻机将会首先会被用到其最新的Intel 18A制程的相关开发，预计基于Intel 18A制程的PC芯片将于今年下半年量产。此外 ...

ASML所生产的High NA EUV设备，型号为“EXE:5000”，是目前全球唯一能供应此类高端设备的厂商。其价格昂贵，每台高达5000亿韩元（约等于24.88亿元人民币）。该设备通过提升透镜和反射镜的尺寸，成功将数值孔径（NA）从0.33提高至0.55，极大程度上增强了光刻的精确度，成为了制造2纳米及以下芯片不可或缺的关键工具。

ASML Twinscan EXE High-NA EUV只需一次曝光即可完成低至8纳米的分辨率，与一次曝光13.5纳米分辨率一般标准EUV相较，是重大改进。前代一般标准EUV仍可双重 ...

在半导体行业的大浪淘沙中，三星电子最近在其华城园区迎来了一次技术的华丽升级。据韩媒FNnews报道，三星斥资5000亿韩元（约合24.88亿元人民币），引入ASML公司研发的High-NA极紫外光刻（EUV）设备，目标是全面提升其2纳米及以下先进制程技术的竞争力。 这款High-NA EUV设备，型号为“EXE:5000”，堪称全球唯一的高端设备供应者，价格不菲，每台售价高达5000亿韩元，然而其 ...

根据爆料显示， High NA EUV的售价高达3.5亿欧元一台，约合人民币27亿元，它将成为全球三大晶圆制造厂实现2nm以下先进制程大规模量产的必备武器。

快科技3月13日消息，据韩国媒体报道，三星电子已于本月初在其华城园区引入首台ASML生产的High-NA EUV光刻机——EXE:5000，价值高达5000亿韩元（约合24. ...

极客网·芯片7月1日 随着半导体行业技术的不断进步，ASML公司即将在2030年推出Hyper-NA EUV设备，这一设备将能够支持1纳米以下的先进工艺技术。

Imec 展示了采用High NA EUV 单一图案化技术获得的 20nm 间距金属线的电气产量 本周，在 SPIE 先进光刻 + 图案化技术大会上，世界领先的纳米电子和数字 ...

快科技2月25日消息， Intel宣布，ASML首批两台高数值孔径（High-NA EUV）极紫光刻机已经在其工厂投入生产 。初步数据显示，其效率、可靠性比上一代EUV ...