正是基于上述ASML EUV的深积淀与高壁垒，决定了其他厂商要想以同样的技术路线实现替代或者赶超几无可能，惟有另辟蹊径。而这也是近日佳能NIL和中国LDP技术路线在业内引起强烈反响和争论的主要原因。

Intel将会使用High-NA EUV光刻机生产14A也就是1.4nm级工艺产品 ，但具体时间和产品未定，有可能在2026年左右量产，或许用于未来的Nova Lake、Razer Lake。

快科技2月25日消息，Intel宣布，ASML首批两台高数值孔径（High-NA EUV）极紫光刻机已经在其工厂投入生产。初步数据显示，其效率、可靠性比上一代EUV ...

快科技2月26日消息，ASML Twinscan EXE:5000 EUV是当今世界上最先进的EUV极紫外光刻机，支持High-NA也就是高孔径，Intel去年抢先拿下了第一台，目前已经在 ...

美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)正致力于研发一种革命性的激光器——拍瓦级(petawatt-class)铥激光器(thulium laser)，其效率远超传统的CO2 EUV激光器 ...

具体来说，ASML EUV光刻机的光源分为两个部分：第一个部分就是通快集团供应的30KW二氧化碳激光器，也称之为“drive laser”，其主要作用就是提供 ...

这是美光内存第一次用上EUV极紫外光刻工艺，而三星、SK海力士早就用了，不过美光这次同时还引入了下一代HKMG金属栅极技术，预计全新的BEOL后端 ...

Schon 2026 soll China komplexe EUV-Systeme in Serie produzieren. Sonderlich realistisch erscheint das allerdings nicht.

Chinesische Halbleiterhersteller bekommen keine EUV-Belichter. Also versucht Huawei, selbst einen zu entwickeln. Angeblich soll er fast serienreif sein.

Chinesische Halbleiterhersteller bekommen keine EUV-Belichter. Also versucht Huawei, selbst einen zu entwickeln. Angeblich soll er fast serienreif sein. - Wirtschaftlich sinnvoll ist nur LPP ...

(Bild: ) 80 Prozent aller weltweit gefertigten Mikrochips werden mit den Optiken von Zeiss SMT hergestellt. Mehr als 95 Prozent ihrer Strukturen entstehen mit Deep Ultraviolet Light, DUV-Licht, bei We ...