Intel将会使用High-NA EUV光刻机生产14A也就是1.4nm级工艺产品 ，但具体时间和产品未定，有可能在2026年左右量产，或许用于未来的Nova Lake、Razer Lake。

快科技2月26日消息，ASML Twinscan EXE:5000 EUV是当今世界上最先进的EUV极紫外光刻机，支持High-NA也就是高孔径，Intel去年抢先拿下了第一台，目前已经在 ...

然而，这类芯片的制造高度依赖极紫外（EUV）光刻技术，该技术本身的规模化瓶颈已成为制约行业发展的关键障碍。 自2019年首批商用EUV芯片问世以来，设备迭代、掩模生成和光刻胶技术的持续改进已使该技术趋于稳定。尽管良率持续提升，但与成熟度更高的深 ...

Huawei, SMIC reportedly advancing LDP lithography, eye 3Q25 trial, 2026 rollout China is making significant strides in ...

ASML to install its High-NA EUV lithography tools in Imec's pilot production line to give research and development personnel access to leading-edge equipment.

Extreme ultraviolet (EUV) lithography is at the center of next-generation semiconductor manufacturing as it enables smaller ...

快科技2月25日消息，Intel宣布，ASML首批两台高数值孔径（High-NA EUV）极紫光刻机已经在其工厂投入生产。初步数据显示，其效率、可靠性比上一代EUV ...

这是美光内存第一次用上EUV极紫外光刻工艺，而三星、SK海力士早就用了，不过美光这次同时还引入了下一代HKMG金属栅极技术，预计全新的BEOL后端 ...

China is set to mass-produce complex EUV systems as early as 2026. However, this does not seem particularly realistic.

近日，雪佛兰在巴西市场震撼发布了一款全新的电动SUV——Spark EUV。这款车型源自通用汽车与中国上汽通用五菱的强强联合，其原型为宝骏悦也Plus。