·聚焦:人工智能、芯片等行业欢迎各位客官关注、转发前言：各大巨头在未来仍将围绕High-NA ...

今年9月，台积电（TSMC）从ASML手上接收了其首台High-NA ...

High NA EUV光刻机是全球首款采用0.55NA数值孔径的光刻机，分辨率达到8nm，成像对比度比之前的NXE系列0.33NA EUV系统高出40%，支持2nm逻辑节点图案化，单价高达3.5亿欧元。 Rick Lenssen此前曾花费2.5年时间 ...

IT之家 12 月 2 日消息，ASML 在官网纪念品商城上架了一款特殊的产品：世界首型 High NA EUV 光刻系统 TWINSCAN EXE:5000 的乐高模型套装。TWINSCAN EXE:5000 光刻机是首款采用 0.55NA ...

光刻机巨头ASML近期在其官方纪念品商店推出了一项令人瞩目的新品——TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机的乐高模型套装。这一创意产品不仅吸引了科技爱好者的目光，也激发了乐高积木爱好者的浓厚兴趣。

在光刻设备制造行业，ASML无疑是翘楚之一。近日，该公司在其官方网站上推出了一款独特的高端产品——High NA EUV光刻机的乐高模型套装。这款乐高套装不仅仅是玩具，还被视为对全球最先进光刻机——TWINSCAN EXE:5000的精确复刻，售价为227.95美元，约合人民币1653元。这款创新产品的推出不仅吸引了乐高和技术爱好者的关注，也引发了业内对光刻技术未来发展的热烈讨论。

今年9月，台积电（TSMC）从ASML手上接收了其首台High-NA EUV光刻机，移送至自己的全球研发中心进行研究，以满足A14等未来先进工艺的开发需求。

High-NA EUV lithography makes it possible to form fine patterns on silicon wafers with a higher resolution than previously ...

据悉，台积电预计将于今年年底从ASML接收首批全球先进的芯片制造设备——高数值孔径极紫外（High NA EUV）光刻机。 这标志着台积电对这项先进 ...

快科技12月3日消息，光刻设备制造商ASML近日在其官网纪念品商城推出了一款特别的产品——High NA EUV光刻系统TWINSCAN EXE:5000的乐高模型套装。

今年9月，台积电（TSMC）从ASML手上接收了其首台High-NA EUV光刻机，移送至自己的全球研发中心进行研究，以满足A14等未来先进工艺的开发需求。

ASML最近在其纪念品商店推出了一款独特的乐高模型套装，灵感来源于全球首台High-NA EUV光刻机TWINSCAN EXE:5000。这款模型不仅是对其尖端技术的致敬，也突破了艺术和工业设计的界限。TWINSCAN EXE:5000以其0.55 NA的数值孔径引领了光刻技术的前沿，能够达到8nm的高分辨率，且成像对比度较前代NXE系列提升了40%。这一光刻机的单价达到3.5亿欧元（约合26.8 ...