最后从市场的角度，台积电、三星和英特尔等全球领先的芯片制造商，为了在激烈的市场竞争中保持技术领先，不得不采用最先进的制程工艺，而这又离不开ASML的EUV光刻机，这使得ASML与客户形成了深度绑定和难以撼动的依赖网络壁垒。

在全球半导体行业面临技术壁垒和地缘政治压力的背景下，华为在芯片制造领域再次传来重大消息。据多方消息来源透露，华为已开始在其东莞工厂测试一款国产的极紫外光刻（EUV）芯片制造设备。如果测试顺利，这项技术突破可能使华为和中国的半导体产业在不依赖荷兰光刻巨 ...

1. 中国科学家提出ssmb-euv光源，有望成为下一代光刻厂技术，实现28 nm、14 nm、7 nm等多种芯片制程使用。 2. ssmb-euv光源具有高功率、适中造价和周长等优点，相较于lpp-euv光源具有明显优势。 3. 然而，ssmb-euv光源仍面临诸多难点，如微聚束在储存环中产生与维持、ssmb相干辐射发光等问题，需要后续研究。