微纳加工丨电子束光刻（EBL）技术介绍 - AccSci英生科技
电子束光刻（e-beam lithography；EBL）是无掩膜光刻的一种，它利用波长极短的聚焦电子直接作用于对电子敏感的光刻胶（抗蚀剂）表面绘制形成与设计图形相符的微纳结构。
一文读懂电子束光刻技术与MEMS制造 - 腾讯网
2020年2月9日 · 电子束光刻的主要原理是利用高速的电子打在光刻胶表面，使光刻胶的化学性质改变 。在电子束光刻中电子的产生方式有两种，一种是热发射，另一 ...
电子束光刻--电子束光刻技术简介--2 - 知乎 - 知乎专栏
2024年12月31日 · 电子束光刻 （电子束光刻）是一种直接写入技术，它使用加速的电子束在涂有电子束敏感光刻胶的衬底上形成低至 10 nm 以下的特征。暴露在电子束下会改变光刻胶的溶 …
光刻技术的原理和EUV光刻技术前景
聚焦粒子束光刻. 聚焦离子束(Focused Ion beam, FIB)的系统是利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的显微切割仪器，她的原理与电子束光刻相近，不过是有电子变成离子。
电子束光刻系统（EBL）：微观世界的“雕刻大师” - 知乎
2025年1月6日 · 电子束光刻系统最为人称道的便是其超高分辨率，能够实现令人惊叹的极小线宽。 在科研前沿领域，科学家们利用 EBL 已经成功制造出线宽小于 5 纳米甚至达到原子级别的微 …
电子束光刻构筑的纳米世界 - 世界科学
2024年12月28日 · 电子束光刻，顾名思义，是采用具有一定动能（ 10 keV～100 keV）和束电流（100 pA～200 nA）的聚焦电子束来取代传统光刻中的光线，对预先涂敷在衬底表面的光刻 …
电子束光刻 – 概述 | Litho wiki
2020年10月27日 · 利用聚焦电子束对某些高分子聚合物（电子束光刻胶）进行曝光并通过显影获得图形的过程。产生聚焦电子束并让聚焦电子束按照设定的图形扫描的设备就叫做电子束光刻机 …
微纳加工 | 光刻 - 电子束光刻篇 - AccSci英生科技
电子束被生成、加速并聚焦到一个小点并在基材上扫描以创建图像。 扫描机制是由基板台的机械平移组合完成的作为电子束的倾斜。 该图案是通过调制束流产生的在扫描光束时打开和关闭。
电子束光刻 - 百度百科
电子束光刻，利用电子束在涂有电子抗蚀剂的晶片上直接描画或投影复印图形的光刻技术。 电子抗蚀剂是一种对电子敏感的高分子聚合物。 经过电子束扫描过的电子抗蚀剂发生分子链重组， …
微纳加工 | 电子束光刻术加工原理 - AccSci英生科技
电子束光刻系统广泛用于制造光刻掩模板、先进的原理样机和纳米级的科学研究及开发。 最先进的电子束光刻系统可以以超高分辨率完成极限尺寸小于10nm的图形转印（通过金属剥离、刻蚀 …