电子束光刻(e-beam lithography;EBL)是无掩膜光刻的一种,它利用波长极短的聚焦电子直接作用于对电子敏感的光刻胶(抗蚀剂)表面绘制形成与设计图形相符的微纳结构。
2020年2月9日 · 电子束光刻的主要原理是利用高速的电子打在光刻胶表面,使光刻胶的化学性质改变 。在电子束光刻中电子的产生方式有两种,一种是热发射,另一 ...
聚焦粒子束光刻. 聚焦离子束(Focused Ion beam, FIB)的系统是利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的显微切割仪器,她的原理与电子束光刻相近,不过是有电子变成离子。
电子束光刻(通常缩写为电子束光刻、ebl)是一种扫描电子聚焦束以在被称为抗蚀剂(曝光)的电子敏感膜覆盖的表面上绘制自定义形状的实践。 电子束改变了抗蚀剂的溶解性,通过将其浸 …
2024年2月10日 · 在现代半导体技术中,电子电路不再由单个元件焊接在一起,而是通过特殊工艺,在硅单晶载板(即所谓的芯片)上制造许多元件,包括电气连接线。一个晶圆上可以有许多 …
我们在《光刻机之战》中讨论跨越193nm时,曾提到尼康和IBM押宝EBDW(E-beam Direct Write,电子束直写;或叫EPL,电子束投射)。 100KeV电子束的波长只有0.004nm,分辨率 …
2024年12月31日 · 电子束光刻 (通常缩写为电子束光刻或ebl)是扫描聚焦电子束以在覆盖有称为光刻胶(曝光)的电子敏感薄膜的表面上绘制自定义形状的做法。 电子束会改变光刻胶的溶 …
2020年10月27日 · 利用聚焦电子束对某些高分子聚合物(电子束光刻胶)进行曝光并通过显影获得图形的过程。产生聚焦电子束并让聚焦电子束按照设定的图形扫描的设备就叫做电子束光刻机 …
电子束被生成、加速并聚焦到一个小点并在基材上扫描以创建图像。 扫描机制是由基板台的机械平移组合完成的作为电子束的倾斜。 该图案是通过调制束流产生的在扫描光束时打开和关闭。
光刻工艺(英語: photolithography 或 optical lithography ,台湾称为微影製程)是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光阻层上刻画几何图形结构,然后通过刻 …