The influence of substrate on the adhesion behaviors of atomic …
2011年1月25日 · Aluminum oxide (Al 2 O 3) films were produced on n-type (001) Si, SiO 2 and polyimide (PI) substrates by atomic layer deposition method (ALD). The surface morphologies …
Atomic-layer-deposition-enabled thin-film composite membranes …
2017年8月1日 · Polyimide is deposited on the surface of nanoporous anodized alumina by atomic layer deposition (ALD) using pyromellitic dianhydride and ethylenediamine as the two …
Atomic layer deposition (ALD) is a chemical thin film deposition technique based on the sequential use of self-terminating and cyclic gas-surface reactions,...
Nucleation and growth of low resistivity copper thin films on …
2023年11月30日 · A multi-pulse process of Cu precursor for low-temperature ALD using Cu (hfac) 2 and Et 2 Zn is developed. A conformal and continuous copper seed layer with low-resistivity …
原子层沉积聚酰亚胺及其对聚合物分离膜改性的研究-学位-万方数 …
原子层沉积(Atomic Layer Deposition，ALD)是一种高效的薄膜生长方法，可以在基底表面形成均匀保形、以亚纳米级精度生长的薄层。本论文利用ALD技术沉积PI薄膜，并利用PI对聚醚 …
原子层沉积在聚酰亚胺上形成的 Al2O3 掺杂 TiO2 薄膜的生长和抗 …
涂覆原子层沉积 （ALD） 薄膜的聚酰亚胺 （PI） 在极端环境中显示出广阔的应用潜力。 为了在 PI 表面获得高质量的超薄 ALD 涂层，掺铝的 ALD-TiO2 （ATO） 薄膜沉积在碱性水热活化的 …
表面预处理和沉积条件对通过原子层沉积的聚合物基底上Al 2 O 3 …
表面预处理和沉积条件对气体渗透性能（包括He，O 2和H 2 O的渗透性）的影响；尺寸; 并通过原子层沉积（ALD）研究了聚合物基底上Al 2 O 3膜的渗透增强缺陷密度和机械柔韧性，从而开 …
Hermetic, Hybrid Multilayer, Sub‐5µm‐Thick ... - Wiley Online Library
In this work, the encapsulation properties of vapour phase infiltration (VPI) of inorganic Al 2 O 3 layers deposited by atomic layer deposition (ALD), as bilayers with TiO 2, onto polyimide and …
薄膜沉积丨原子层沉积（ALD）技术原理及应用 - AccSci英生科技
原子层沉积 (Atomic Layer Deposition, ALD)是一种基于化学气相沉积 (CVD) 的高精度薄膜沉积技术，是将物质材料以单原子膜的形式基于化学气相一层一层的沉积在衬底表面的技术。
Growth and atomic oxygen erosion resistance of Al2O3-doped …
2024年10月31日 · Polyimide (PI) coated with atomic layer deposition (ALD) thin films shows promising potential for applications in extreme environments. To achieve a high quality …