2025年2月23日 · 在半导体制造领域， pvd （ 物理气相沉积 ）和 cvd （ 化学气相沉积 ）是极为关键的两种薄膜沉积技术，它们各自有着独特的特点、明显的区别以及广泛的应用场景。

2023年8月14日 · 香港证监会表示，在投资者识别码制度下，持牌法团及注册机构须向香港联合交易所有限公司（联交所）提交在联交所发出证券交易指令的客户的名称及身分证明文件资料。 投资者识别码制度及场外证券交易汇报制度预期分别于2022年下半年及2023年上半年实施，但仍需视乎系统测试及市场演练情况而定。 香港证监会称，持牌法团及注册机构也须依据另一制度，就联交所上市的普通股及房地产投资信托基金的相关场外证券交易，向证监会汇报有关资料，而回应者 …

PVD技术 是制备薄膜材料的主要技术之一，膜层可实现特定的光谱及功能特性，也可以赋予产品金属质感和丰富的颜色等外观特性，并改善耐磨、耐腐蚀性，延长寿命。 真空蒸发镀膜 和 溅射镀膜 是最主流的两种 PVD 镀膜方式。 今天博顿君分享PVD的相关知识，供朋友们参考。 PVD 物理气相沉积 是一种物理气相反应生长法。 沉积过程是在真空或低气压气体放电条件下，即在低温等离子体中进行的。 涂层的物质源是固态物质，经过“蒸发或溅射”后，在零件表面生成与基材性能 …

2025年1月16日 · 物理气相沉积 (PVD) 涂层是最先进的涂层之一 表面处理类型 表面涂层和着色技术包括两个主要步骤：材料蒸发和在基底材料上沉积。 该工艺的另一个名称是薄膜涂层。 真空室中装有基材和 PVD 涂层材料（通常为离子形式）。 当真空室加热时，固体材料会蒸发。 这样形成的颗粒会沉淀在基材上。 该过程在真空室内 50-600°C 的温度范围内进行。 蒸发后，穿过真空室的原子会附着在其路径上的任何东西上。 这就是为什么 PVC 涂层有时被称为“视线”法。 在这方 …

2020年7月14日 · 准直器（Collimator） PVD原理是在靶材和圆片之间加一个六角孔状的准直器，用于筛除掉从靶材溅射下来的较大入射角金属材料，准直器腔体沉积速率较慢，PM周期较短。 长距PVD原理是增大晶圆到靶材的距（传统溅射一般为190mm,长距溅射为240mm）,筛除掉从靶材溅射下来的较大入射角金属材料，长距腔体沉积速率较慢，均匀性较差，PM周期短。 IMP（Ionized Metal Plasma） RF线圈用于电离金属原子，使其变成金属离子，RF BIAS 在晶 …

2024年2月21日 · pvd（物理气相沉积）技术是一种先进的表面处理方法，通过物理过程在基材表面形成薄膜层，以此改善材料的机械、化学及物理性能。本节将深入探讨pvd技术的原理、涂层类型、特点及其广泛的应用领域，为您提供一个全面、流程化且专业深入的技术概述。

2024年12月12日 · 文章详细解析了pvd工艺的工作机制、薄膜特性及其与传统镀膜技术的对比，同时探讨了蒸发镀膜、磁控溅射、离子镀及复合技术的工艺细节。 结合机械制造、电子光学、医疗设备等多领域的核心应用，本文还对PVD工艺的优势与局限进行深度总结，并展望其未来 ...

2024年3月1日 · 薄膜沉积技术可以分为化学气相沉积（cvd）和物理气相沉积（pvd），此外还会少量使用电镀、蒸发等其他工艺。 近年来还出现了较为先进的原子层沉积（ALD），用于精细度要求较高的沉积。

2021年12月2日 · PVD涂层，又称真空镀膜，纳米涂层，镀钛等，是真空物理沉积工艺的统称。 针对不同的金属表面应用场景，功能需求，需选择不同元素种类的PVD真空镀膜。 相同的PVD涂层种类，由于弧源的种类不同，晶格成长形状，膜结构，靶材品质，以及前处理，温度控制，真空度等，最终成膜的品质也会相差甚远。 氮化钛涂层。 它具有500℃抗氧化温度，优越的耐磨性、耐腐蚀性。 它不仅可用于刀具，也可用于刀具，还可广泛用于模具、线切割机、注塑件等。 由于含 …

2024年10月25日 · B_CAN是一种车身局域网控制总线，其主要功能是连接非关键性控制单元，例如车门、灯光、雨刷等，这些单元对车辆运行的重要性相对较低。 B_CAN的传输速度为100Kbit/s，虽然在速度上并不突出，但其稳定性和可靠性满足了大部分日常需求。 不同车型对B_CAN的称呼也有所不同，有的称为舒适系统CAN，有的则称为K-CAN，而PT-CAN则是一个统一的叫法。 另一方面，f-can则是针对发动机和变速箱等关键部件设计的快速总线。 f-can的主要 …