2022年8月4日 · 双光子光刻（TPL）是一种独特的微加工技术，利用聚合速率对辐照光强度的非线性依赖性来产生真实的三维结构，其特征尺寸超过衍射极限。 这一特性彻底改变了用于制造微纳米结构的激光材料加工。 本文概述了TPL的工作原理、实验装置和材料。 然后，介绍了分辨率的影响，重点介绍了提高结构最终分辨率所采用的技术。 提供了提高吞吐量和制造速度的见解，为该技术的工业化铺平道路。 最后，全面回顾和介绍了以超材料为重点的结构微制造的TPL。 利用光 …

2021年10月1日 · Two-photon lithography (TPL) is one such unique microfabrication technique exploiting the nonlinear dependency of the polymerization rate on the irradiating light intensity to produce true three-dimensional structures with feature sizes beyond the diffraction limit.

2023年4月21日 · In recent decades, two-photon lithography (TPL) has emerged as a promising technique that employs direct laser writing (DLW) for the fabrication of 3D nanostructures with high throughput and higher resolution for rapid prototyping.

2022年8月16日 · 双光子光刻（TPL）是一种独特的微加工技术，利用聚合速率对辐照光强度的非线性依赖性来产生真实的三维结构，其特征尺寸超过衍射极限。 这一特性彻底改变了用于制造微纳米结构的激光材料加工。 本文概述了TPL的工作原理、实验装置和材料。 然后，介绍了分辨率的影响，重点介绍了提高结构最终分辨率所采用的技术。 提供了提高吞吐量和制造速度的见解，为该技术的工业化铺平道路。 最后，全面回顾和介绍了以超材料为重点的结构微制造的TPL。 1.介 …

2016年，科学家利用双光子直写技术在光纤顶端不到200微米的范围内加工了成像效果良好的透镜组，制成了目前世界上最小的内窥镜，如图6所示。 此项工作笔者会在后续文章中详细介绍。 图6 双光子直写技术加工的单透镜、双透镜和三透镜组的成像效果。 a.光路设计图 b.成像效果仿真模拟图 c.单透镜、双透镜和三透镜组剖面电子显微镜图 d.实验得到的成像效果图. （Two-photon direct laser writing of ultracompact multi-lens objectives） 除了科研领域，该项技术越来越多的被利 …

2021年9月3日 · Two-photon polymerization, also known as direct laser writing (DLW), femtosecond laser writing, dip-in laser lithography (DiLL), multiphoton SLA, or 3D laser lithography 40, is a...

fp-tpl方法能够打印复杂3d亚微米特征结构图案。 FP-TPL的打印量、分辨率和模式灵活性使其成为一项有吸引力的技术，可实现微纳米结构的批量制造，可能使用在机械和光学超材料，微光学、生物支架，电化学接口和柔性电子器件多种领域。

2024年11月13日 · 双光子聚合光刻（Two-photon polymerization lithography， TPL）是一种纳米级3D打印技术，通过液态树脂中的非线性双光子吸收过程，能够制造超越光学衍射极限的复杂结构。

tpl允许制造高度通常仅在几十微米范围内的结构。 然而，Buckmann等人提出了一种新的“浸入式”3D DLW技术，如图31（i）所示。 该方法利用光致抗蚀剂本身作为物镜和衬底之间的浸没油，以亚微米特征尺寸将制造延伸至毫米高度。

2023年12月21日 · 激光微纳加工技术利用激光脉冲与材料的非线性作用，可以<100nm精度实现传统方法难以实现的复杂功能结构和器件的增材制造。 而激光直写（DLW）光刻是一项具有空间三维加工能力的微纳加工技术，在微纳集成器件制造中发挥着重要作用。 在半导体产业发展史上，光刻技术的发展经历了多个阶段，接触/接近式光刻、光学投影光刻、分步（重复）投影光刻等出现时间较早。 集成电路生产主要采用扫描式光刻、浸没式扫描光刻、深紫外光刻（DUV）和极紫 …