The TWINSCAN NXT:1980Di delivers high productivity and reliability for volume production at advanced nodes with a global system uptime of >97%. Like the TWINSCAN NXT:2000i, this step-and-scan system is a high-productivity, dual-stage immersion lithography tool designed for volume production of 300 mm wafers at advanced nodes.

从公司官网可以看到目前asml主流的duv光刻机有三款设备： 该公司认为最先进的设备可能是 twinscan nxt：2000i及随后推出的浸入式设备。nxt：1980i duv光刻机则不在管制范围之内(nxt：1980i这款设备也是当年武汉曾经花费了7200万美元购买过的设备。

The dual-stage ArF immersion lithography system prints mid-critical layers on 300 mm wafers with industry-leading throughput. Chipmakers use the TWINSCAN NXT:1980Fi to print mid-critical chip layers – those just above the most sensitive transistor layers – in both advanced and mature semiconductor nodes.

目前ASML在售的浸没式光刻机主要有三大型号：TWINSCAN NXT:2050i、 TWINSCAN NXT:2000i 和TWINSCAN NXT:1980Di。 根据ASML的解读，其TWINSCAN NXT:2000i及之后的浸没式光刻系统将会受到出口限制。 这也意味着，TWINSCAN NXT:1980Di 仍将可以出口。 根据ASML官网的介绍，TWINSCAN NXT:1980Di 的分辨率可以达到≤38nm，每小时可以生产275片晶圆。 据芯智讯了解，NXT:1980Di 虽然分辨率在38nm左右，但是通过多重曝光，依然可以支 …

2023年3月9日 · 目前ASML在售的浸没式光刻机主要有三大型号：TWINSCAN NXT:2050i、TWINSCAN NXT:2000i 和TWINSCAN NXT:1980Di。 根据ASML的解读，其TWINSCAN NXT:2000i及之后的浸没式光刻系统将会受到出口限制。 这也意味着，TWINSCAN NXT:1980Di 仍将可以出口。 根据ASML官网的介绍，TWINSCAN NXT:1980Di 的分辨率可以达到≤38nm，每小时可以生产275片晶圆。 据芯智讯了解，NXT:1980Di 虽然分辨率在38nm左右，但是通过多重曝 …

2024年2月1日 · ASML 表示，“个别中国先进芯片制造晶圆厂将无法获得发运 NXT:1970i和 NXT:1980Di 浸涂式DUV设备的许可证。 ”对于这个“个别晶圆厂”，被列入美国“实体清单”的中国晶圆厂想必大家都心知肚明。 此外，需要注意的是，美国在2023年10月对于 光刻机 的出口禁令进行了升级，标准更为严格。 在2022年10月的禁令中，针对使用193纳米波长的 光刻机，若其 分辨率 小于45纳米且套刻精度的DCO值小于1.5纳米时，将被禁止出口。 到了2023年10月，禁令发 …

2024年9月7日 · 9月6日，光刻机巨头阿斯麦在其官网上发表了一份重要声明，荷兰正式公布了关于浸润式DUV光刻机出口的新规，要求ASML自9月7日起，对其TWINSCAN NXT:1970i和1980i两款中等系列的DUV光刻机出口申请出口许可证。 这一新规自9月7日起正式生效，意味着阿斯麦需要申请出口许可证，才能将这两款中等光刻机发往市场。 不过，面对新规的出台，阿斯麦迅速作出了回应：申请许可的审批权不再交由美国，而是回到了荷兰本土的海牙。 荷兰贸易部长雷内特· …

2024年9月7日 · 荷兰政府这次最新宣布的针对ASML NXT:1970i 和 1980i DUV 浸没式光刻系统的出口管制实际是将这两款设备的出口管制权从美国政府那边拿了过来，也就是说后续这两款设备的出口许可证的发放将由荷兰政府来决定。 显然这对于ASML来说是一件好事，比较荷兰政府自然是会比美国政府更偏向于关注本国关键企业的利益。 对此，ASML官方也发布声明表示，认为这一新规主要是协调颁发出口许可证的方式，即由美国政府发放许可变更为由荷兰政府发放许可。 …

2024年1月24日 · 此外，Roger Dassen还进一步指出，“个别中国先进芯片制造晶圆厂将无法获得发运NXT:1970i 和 NXT:1980i 浸没式DUV设备的许可证。” 随着出口管制政策全面实施，将会对2024年ASML中国大陆业务带来多大的影响呢？

1980i光刻机是半导体制造领域的一款重要设备，属于早期的深紫外（DUV）光刻技术。 该型号光刻机在1980年代首次推出，标志着光刻技术在集成电路生产中的一次重大进步。

昨天，一则消息传出，从9月7日起，荷兰政府重新修改了出口禁令，之前能够出售给中国的twinscan nxt:1970i 和 1980i duv 浸没式光刻系统，也需要荷兰政府的许可证了。

2024年9月7日 · 9月6日，光刻机巨头阿斯麦在其官网上发表了一份重要声明， 荷兰正式公布了关于浸润式DUV光刻机出口的新规， 要求ASML自9月7日起，对其TWINSCAN NXT:1970i和1980i两款中等系列的DUV光刻机出口申请出口许可证。 这一新规自9月7日起正式生效，意味着阿斯麦需要申请出口许可证，才能将这两款中等光刻机发往市场。 不过，面对新规的出台，阿斯麦迅速作出了回应：申请许可的审批权不再交由美国，而是回到了荷兰本土的海牙。 荷兰贸易部长雷内 …

Solutions in place for cross-platform matching DUV to EUV. Various alignment- & focus-control and dose (laser power) packages available.

1 天前 · 荷蘭政府6日宣布，擴大對半導體設備商艾司摩爾（ASML）的出口管控，該公司生產的1970i以及1980i兩款深紫外線（DUV）浸潤光刻設備都被列入限制名單，除了強化與美國合作管控相關技術的輸出，同時也展現出該國正重新掌握半導體設備政策自主權。

作为1980di机型的升级版，2050i，2100i同属采用193nm波长光的浸润式光刻设备，借助多重曝光等技术，具备生产7nm制程芯片的能力，理论上能够生产5nm制程芯片。 ASML的DUV光刻机产品对比， 2100i基本可视为当前最先进的一批型号. 来源：硅基研究室制图. 过去，针对EUV的封锁，更多是“威慑意义”。...

2024年9月13日 · 而到了今年的9月上旬，荷兰有关部门再次颁布半导体设备出口管制，这份出口管制增加了1970i型、1980i型两款DUV浸润式光刻系统。 也就是说，ASML需要售卖1970i型和1980i型光刻机也需要获得许可证才能出售。

2024年9月6日 · 1980i 是最低端的 DUV 扫描仪，被称为浸入式机器。 它们是业内使用最广泛的扫描仪，每天可生产 6000 多片硅晶片。 这些机器还可以通过套件升级为下一代 EUV 扫描仪，今天的公告发布后，ASML 将不得不向荷兰政府申请出口这些机器的许可证，而不是向美国政府申请。

2024年9月6日 · Now that the Dutch government is in charge of Twinscan NXT:1970i and 1980i export controls, it might review export license applications more favorably for ASML and its Chinese customers.

2024年9月13日 · 从2000i型及2000i型以后的DUV浸润式光刻机限制出售，再到1970i型、1980i型光刻机限制出售，荷兰相关部门对光刻机的管制可谓是进一步加强。 而这里面是否有老美因素参与其中，这应该是大概率事件。

2024年1月26日 · 在近日全年财报会上，asml对外表示，个别中国大陆晶圆厂低端duv光刻机的供应也将受限，其中包括：nxt:1970i和nxt:1980i浸没式duv设备。 荷兰进一步扩大出口限制，就连低端浸没式DUV对个别大陆晶圆厂也将断供，这一措施对中企和ASML究竟谁的影响更大？