Providing high resolution in high-volume manufacturing, ASML’s extreme ultraviolet (EUV) lithography systems are pushing Moore’s Law forward. Discover our NXE systems that use EUV light to deliver high-resolution lithography and make mass production of the world’s most advanced microchips possible.

ASML’s TWINSCAN NXE:3800E is a dual-stage extreme ultraviolet (EUV) system that supports high-volume manufacturing of 2 nm Logic nodes and leading-edge DRAM nodes.

2024年1月25日 · What is High NA EUV lithography? High NA EUV is the next step in our constant pursuit of shrink. Like NXE systems, it uses EUV light to print tiny features on silicon wafers. And by turning the NA knob, we deliver even better resolution: The new platform, known as EXE, offers chipmakers a CD of 8 nm.

2023年7月21日 · 目前最先进的ASML光刻机用的激光器是EUV（极紫外）激光器。 ASML的光刻机是长这样的。 为了延续摩尔定律（参考： 摩尔定律的继续将对物理学和经济产生巨大压力），硅片上集成的晶体管尺寸需要越来越小，这是通过光掩膜版在光刻胶上成像实现的。 但光学成像，是无法无限清晰下去的。 光学成像小于一定大小，就必须考虑衍射效应，即对尺寸接近光波波长的成像细节，就开始模糊了。 因此，随着集成电路上的晶体管尺寸越来越小，我们用到的 …

近日，全球光刻机大厂ASML首次在其荷兰总部向媒体公开展示了最新一代的High NA EUV光刻机。 除了已经率先获得全球首台High NA EUV光刻机的英特尔之外，台积电和三星订购High NA EUV预计最快2026年陆续到位，届时High NA EUV将成为全球三大晶圆制造厂实现2nm以下先进制程大规模量产的必备“武器”。 ASML发言人Monique Mols在媒体参观总部时表示， 一套High NA EUV光刻系统的大小等同于一台双层巴士，重量更高达150吨，相当于两架空中客车A320客 …

2022年12月19日 · euv 光刻机路线图显示， 2023 年将推出 0.55 na 的 exe:5000 样机，套刻精度为 1.1nm ，可用于 1 纳米生产。 按照业界当前的情况推测，真正量产机型 EXE:5200B 出货可能要等到 2024 年。

2024年7月25日 · 截至 2022 年，ASML 已出货约 140 台 EUV 系统，而且它是唯一一家制造EUV的公司。 ASML 最畅销的 EUV 产品是 TWINSCAN NXE:3600D，其售价高达 2 亿美元。 这台光刻机约180吨，卡车大小的体积，需要用三架波音 747运输。 ASML的EUV光刻机主要是TWINSCAN NXE，TWINSCAN EXE系列，见下表： 下期我们会总结ASML公司DUV光刻机型号。 欢迎加入我的半导体制造知识星球社区，目前社区有1900人左右。 在这里会针对学员问题答 …

IT之家 2 月 13 日消息，荷兰半导体制造设备巨头 ASML 前天刚刚展示了其下一代高数值孔径 (High-NA) 极紫外 (EUV) 光刻机，还透露其 High-NA Twinscan EXE 光刻机的价格约为 3.5 亿欧元（IT之家备注：当前约 27.16 亿元人民币）。相比之下，现有的 EUV 光刻机价格约为 1.7 亿 ...

2025年3月8日 · China's domestic extreme ultraviolet (EUV) lithography development is far from a distant dream. The newest system, now undergoing testing at Huawei's Dongguan facility, leverages laser-induced discharge plasma (LDP) technology, representing a potentially disruptive approach to EUV light generation.

2021年2月15日 · ASML 上周财报中指出该公司于2020 年底庆祝第100 台EUV 极紫外光光刻系统出货。 中国台湾目前更是全球EUV最大的装机基地。 EUV 光刻技术历经20 余年的实验室研发，以及12 年的量产研发，至今成为半导体先进制程中最重要的生产工具。 ASML 全球副总裁暨技术开发中心主任严涛南，正是推动EUV 应用在量产阶段的灵魂人物。 接下来我们看一下由严涛南先生撰写的文章：ASML 极紫外光（EUV）光刻技术的量产历程. ASML 全球副总裁暨技术开发中 …