The EVG ® 610 is a compact and multi-purpose R&D system that can handle small substrate pieces and wafers up to 200 mm. Features Technical Data The EVG610 supports a variety of …

EVG®610是一款紧凑的多功能研发系统，可处理200mm以下的小基板片和晶圆。 技术数据. EVG610支持多种标准光刻工艺，例如真空，硬，软和接近曝光模式，并可选择背面对准。 此 …

evg®610 单面/双面掩模对准光刻机（ 微流控 纳米压印）支持各种标准光刻工艺，如真空，硬，软接触和接近式曝光模式，可选择背部对准方式。此外，该系统还提供其他功能，包括键合对准 …

evg 610是一款入门级光刻机，支持接近式、软接触、硬接触、真空接触4种曝光方式，可选配背面对准模块。 也可用于键合对准及纳米压印光刻（NIL），是科研开发用户的理想选择。

EVG610是一款非常灵活的适用于研发和小批量试产的对准系统，可处理最大200mm之内的各种规格的晶片。 EVG610支持各种标准的光刻工艺，例如：真空、软、硬接触和接近曝光；也支持 …

EVG® 610 是一种紧凑、多用途的研发系统，可处理高达 200 毫米的小型基板和晶圆。 EVG610 支持各种标准光刻工艺，如真空、硬、软和接近曝光模式，并提供背面对齐选项。 此外，该 …

EVG 610 （ NIL ）是一款基于 EVG610 光刻机的紫外纳米压印设备，可针对压印、光刻、对准功能进行快速转换。 主要特点及参数： · 最大支持 6 英寸（ 150mm ）晶圆. · 最高分辨率可达 …

In addition, the system offers conventional UV Nanoimprint Lithography (soft UV-NIL) and allows quick processing and re-tooling for changing user requirements with a conversion time …

The EVG®610 is a compact and multi-purpose R&D system that can handle small substrate pieces and wafers up to 200 mm. The EVG610 supports a variety of standard lithography …

2024年8月7日 · EVG®610 是一款紧凑型多功能研发系统，可处理零碎片和蕞大 200 mm 的晶圆。 EVG610 支持各种标准光刻工艺，如真空，硬，软接触和接近式曝光模式，可选择背部对准方式。