Known for its versatility and reliability, the EVG620 NT provides state-of-the-art mask alignment technology on a minimized footprint area combined with advanced alignment features and optimized total cost of ownership.

Known for its flexibility and reliability, the EVG620 NT provides state-of-the-art mask alignment technology on a minimized footprint. Operator-friendly software, minimized time for mask and tooling changes, as well as efficient worldwide service support makes them the ideal solution for any R&D environment up to semi-automated volume production.

The EVG620 NT Gen2 and EVG6200 NT Gen2 mask aligners are exemplary production systems for wafer sizes up to 200 mm. The systems provide state-of-the-art mask alignment technology on a minimized footprint area combined with the utmost throughput and optimized total cost of …

evg620 nt 或完全容纳的 evg620 nt gen2 掩模对准系统配备了集成的隔振系统，可在各种应用中获得出色的曝光效果，例如对薄而厚的抗蚀剂进行曝光 ，对深腔进行构图以及可比较的形貌。以及薄而易碎的材料（例如化合物半导体）的加工。

evg 620nt是一款通用性和可靠性强的光刻机，提供先进的掩膜对准技术。 可选择半自动或全自动配置，满足大批量生产和Fab标准。 主要特点及参数：

EVG® 620 NT 提供最先进的掩模对准技术，最小化的占地面积可达 150 mm 的晶圆尺寸。 EVG620 NT 因其多功能性和可靠性而闻名，在最小的占地面积上提供了先进的遮罩对准技术，同时具有先进的对准功能和优化的总拥有成本。

EVG 620 NT在最大150mm晶圆尺寸的最小化占地面积上提供最先进的掩模对准技术。 它是光学双面光刻的理想工具，可采用半自动或自动化配置，配备了集成振动隔离功能，可在各种应用中实现出色的曝光结果，以满足大批量生产要求和晶圆厂标准。

EVG®620NT掩模对准系统（半自动/自动）在最小的占位面积上提供最先进的掩模对准技术，支持半自动或自动配置及全外壳Gen 2解决方案，适用于大批量生产和制造标准。 该系统具备高效的操作员友好型软件、快速的掩模和工具更换时间，以及全球服务和支持。 其支持多种晶圆尺寸处理，配备集成的隔振系统，并兼容EVG专有的SmartNIL技术。 系统具备先进的对齐功能和曝光选项，适用于研发与全面生产的兼容性。 EVG®620NT 掩模对准系统（半自动/自动） …

具有UV纳米压印功能的通用掩模对准系统，采用EVG专有的SmartNIL®技术，最大可达100 mm. 技术数据. EVG620 NT以其灵活性和可靠性而著称，以最小的占位面积提供了最新的掩模对准技术。 操作员友好型软件，最短的掩模和模具更换时间以及有效的全球服务支持使它们成为任何研发环境（半自动批量生产）的理想解决方案。 该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，以及背面对准选项。 此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对齐 …

evg620 nt 因其灵活性和可靠性而闻名，以最小的占地面积提供最先进的遮罩对准技术。 操作员友好的软件，最大限度地缩短了掩模和工具更换的时间，以及高效的全球服务支持，使其成为任何研发环境直至半自动批量生产的理想解决方案。