第四代的ArF光刻机，与第三代KrF原理一样，但光源升级，采用193nm光源的光刻机，这两种称之为DUV光刻机，也叫做DUV光刻机。 而第五代叫做ArFi，前面三个字母相同，因为采用的也 …

（2） ArF、KrF光刻胶. 到了90年代末，半导体制程工艺发展到350mm以下，g线和i线光刻胶已经无法满足这样的需求了，于是出现了适用于248nm波长光源的KrF光刻胶和193nm波长光源的ArF光刻胶。它们都属于深紫外光刻胶，和g线、i线有质的区别。

在先进制程中，主要以 KrF， ArF，EUV光刻为主，那么今天，针对多元化的光刻胶需求，我们把日本 TOK公司 （Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.）的光刻胶型号整理出来，有些是我用过的，有些没用过，但是数据绝对可靠，供大家参考。 TOK提供多种类型的光刻胶，以满足各种光刻需求。 这包括正胶、负胶、i-线、g-线、深紫外线（DUV）和极紫外线（EUV）光刻胶等。 G线胶有 OFPR Series 、 TSMR Series 两个系列。 i线胶有TSMR Series、 THMR-iPSeries 、TDMR-AR …

248 nm KrF准分子激光是最早引入光刻的准分子光源，主要应用于180 nm~100 nm工艺。后续193 nm ArF准分子激光广泛应用于90 nm及以下节点半导体量产。通过浸没式技术、双图形技术、多图形等先进技术，193 nm ArF准分子激光可应用于光刻10 nm节点量产。 图5 半导体光刻机

JSR Corporation 是一家日本的化学品公司， 最初成立于1957年，名为 "Japan Synthetic Rubber Co., Ltd."，主要生产合成橡胶。 1997年开始生产光刻胶，是半导体和显示产业的关键供应商。 目前已介绍了三家著名公司的光刻胶产品，几乎涵盖了G线到EUV几乎所有的CD，胶厚，希望大家在选择光刻胶时不会太过迷茫。 原创不易，转载请联系我开白名单，白名单可对文章进行适当修改！ 前几期中，我们汇总了，AZ系列光刻胶，Tok光刻胶，见文章： AZ系列光刻胶大汇总TOK光 …

2022年3月30日 · 例如KrF 准分子激光（248 nm）、 ArF 准分子激光 （193 nm）和F2准分子激光（157 nm）等。 曝光系统的功能主要有：平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光和冷光处理、实现强光照明和光强调节等。 按照光源类型划分，光刻机不仅有极紫外光刻机（EUV），还有ArF浸没式光刻机、ArF干式光刻机、KrF光刻机、i-line设备等。 其中，ArF浸没式、ArF干式和KrF都属于深紫外线光刻机（DUV），EUV是目前最先进的光刻机，但DUV其实是当前半导体制造的主 …

2024年12月18日 · 该公司最近宣布，其ArF和KrF光刻胶已通过客户评估，并成功获得来自国内晶圆厂的订单，金额超过137万美元。 这一成果标志着中国在高端光刻胶领域的重要突破，表明国内企业有能力通过创新工艺（如定制单体和树脂结构、改进纯化和混合工艺）实现光刻胶的 ...

2021年1月26日 · krf光刻胶和arf光刻胶是两种常用于半导体制造中的光刻胶。它们之间有以下几个主要区别： 1. 光敏机理：krf光刻胶属于传统的紫外光刻胶，其光敏剂对紫外光敏感。而arf光刻胶则是使用深紫外光进行曝光，其光敏剂对较...

krF光刻胶与ArF光刻胶都主要用于半导体领域，二者最大区别是光刻胶的光源波长不同，其中krf波长为248nm，arf波长为193nm，arf光刻胶的分辨率更好，技术含量更高。arf和krf都属于深紫外光范畴，也都是duv光刻机应用光源，但是光源技术上相差一代。

光刻胶，知识点普及，ArF、KrF应该怎么读，为什么会作为区分光刻胶类型的代号？, 视频播放量 10344、弹幕量 9、点赞数 146、投硬币枚数 36、收藏人数 212、转发人数 78, 视频作者 硬科技新势力, 作者简介 硬科技&投资，相关视频：光刻胶为什么这么难？