FIB-SEM中的GIS有两种功能： 一种是 材料沉积 功能，一种是 辅助刻蚀 功能。 材料沉积 就是离子束或电子束使吸附在样品表层的气体分子分解成易挥发部分和不易挥发部分。 易挥发部分被真空系统抽走，不易挥发部分则沉积在离子束或电子束照射的位置形成薄膜沉积。 常用的薄膜沉积辅助气体是C9H16Pt用于沉积Pt薄膜，使用TEOS气体沉积SiO2薄膜；其他常用的沉积膜还有W和C膜。 薄膜的沉积过程是比较复杂的，首先是形核，然后通过长大并相连形成连续的膜。 由于注 …

fib-sem 中的 gis 有两种功能：一种是材料沉积功能，一种是辅助刻蚀功能。 材料沉积就是 离子束或电子束使吸附在样品表层的气体分子分解成易挥发部分和不易挥发部分。

聚焦离子束扫描电子显微镜(Focused Ion Beam-Scanning Electron Microscope，简称FIB-SEM)双束系统是指同时具有聚焦离子束(FIB)和扫描电子显微镜(SEM)功能的系统。 通过结合相应的气体沉积装置，纳米操纵仪，各种探…

聚焦离子束FIB切片技术的基本原理是利用高能离子束将目标样品进行切割。 首先，通过离子源产生离子束，经过聚焦透镜和扫描电极后，形成极细的离子束。 该离子束在样品表面聚焦并扫描，通过物理撞击和化学反应，将目标样品逐层剥离，从而实现切割。 (a) FIB-SEM双束系统工作原理示意图; (b) Ga离子束与样品的相互作用示意图; (c) FIB离子束可是样品的示意图; (d) FIB离子束和GIS系统在样品表面进行诱导沉积的示意图。 FIB-SEM可以简单理解为单束聚焦离子束系统与 …

the safe, versatile and easy-to-use gas injection system (GIS) introduces gases close to the sample surface in SEM, FIB and DualBeam™ vacuum chambers. The GIS essentially consists of a reservoir of precursor material attached to a fine needle, which can be accurately inserted down to ~100 μm above the sample surface.

聚焦离子束（FIB）是一种将高能离子流聚焦成细束的仪器，通过将离子束扫描到目标材料上来进行加工。 离子与试样相互作用，以纳米精度去除试样原子，实现纳米级加工。 FIB结合了完全受控的离子束、高精度样品导航系统和先进信号检测器，形成了一个用于成像、溅射和微加工的多功能分析平台。 在20世纪70年代，微电子的大规模生产需要一种能够准确定位硅晶圆半导体器件顶面故障的专用分析工具。 这促使了FIB商业化，并奠定了类似仪器的设计与制造基础。 无论应用 …

A Focused Ion Beam (FIB), when scanning a given area, modifies the sample surface in different ways depending on the energy of the incoming ions. By only irradiating in the typically used 5 - 30 keV energy range, the exposed area is principally etched as a consequence of mechanical collisions between accelerated ions and surface atoms.

2017年11月22日 · fib-sem双束电镜不仅仅是将聚焦离子束与扫描电镜集成于一体，更重要的是通过集成其他辅助系统使fib-sem的加工及分析功能更加丰富。 下图是TESCAN LYRA3 FIB-SEM样品室内部的照片，可以看到不同的部件的安装情况。

聚焦离子束 (FIB)与 扫描电子显微镜 (SEM)耦合成为FIB-SEM双束系统后，通过结合相应的气体沉积装置， 纳米操纵仪，各种探测器及可控的样品台等附件成为一个集微区成像、加工、分析、操纵于一体的分析仪器。 其应用范围也已经从半导体行业拓展至材料科学、生命科学和地质学等众多领域。 为方便客户对材料进行深入的失效分析及研究，金鉴实验室现推出 Dual Beam FIB-SEM 制样业务，并介绍Dual Beam FIB-SEM在材料科学领域的一些典型应用，包括 透射电镜 ( TEM)样 …

use gas injection system (GIS). The GIS essentially consists of a reservoir of precursor material attached to a fine needle which is accurately inserted, when required, to around 100 µm above the sample surface within the vacuum chamber of the SEM, FIB or DualBeam. Having the needle close to the sample surface means