WONIK IPS
PECVD is used to prevent moisture penetration of fiexible OLED devices. IPS PECVD has deposited SiNx thin films with optimized optical transmittance and stress for flexible OLEDs …
PECVD - WONIK IPS
PECVD is used to prevent moisture penetration of fiexible OLED devices. IPS PECVD has deposited SiNx thin films with optimized optical transmittance and stress for flexible OLEDs …
PECVD TEOS工艺介绍 - 知乎 - 知乎专栏
PECVD TEOS不仅可以用来制作 USG, PSG, BPSG, FSG 等。 USG，是未掺杂的SiO2。 PSG，是掺磷的SiO2；BPSG，是掺硼、磷的SiO2；FSG，是掺氟的SiO2。 以上薄膜均可以 …
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GEMINI CVD system produces dielectric films with plasma-enhanced chemical vapor deposition technology such as Anti-Reflective Coating and hardmask. Our PECVD system provides …
十分钟读懂PECVD - 知乎 - 知乎专栏
PECVD技术是在低气压下，利用低温等离子体在工艺腔体的阴极上（即样品放置的托盘）产生辉光放电，利用辉光放电（或另加发热体）使样品升温到预定的温度，然后通入适量的工艺气体， …
PECVD基本原理以及系统介绍 - 知乎 - 知乎专栏
PECVD （Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition， 等离子体增强化学气相沉积 ）是一种利用等离子体辅助的薄膜沉积技术，广泛应用于半导体、微电子、光学和光伏等领域。以下 …
等离子增强型化学气相淀积（PECVD）技术分类及设备结构详解
MWECR-PECVD技术巧妙地结合了微波与磁场，利用电子的回旋共振效应在真空环境中产生高活性、高密度的等离子体，从而引发气相化学反应。 这一技术能够在低温条件下制备出高质量 …
PECVD systems can produce thick dielectric films with stress below 20 MPa, refractive index tuned across a suitably wide range and measured optical loss of ≤0.2dB/cm. To maximize …
高密度等离子体化学气相沉积 ICPPECVD - USTC
ICPPECVD是一种借助感应耦合等离子技术的化学气相沉积设备，相比传统 PECVD 具有优良的等离子体特性，如高等离子体密度，沉积介质膜时低压强，离子能量能够独立控制等，所沉积的 …
盛美半导体推出首台PECVD设备，预计几周内交付-电子工程专辑
2022年12月14日 · 盛美半导体宣布推出拥有自主知识产权的Ultra PmaxTM等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备，预计将在几周内向中国的一家集成电路客户交付其首台PECVD设备。
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