With High NA EUV, Intel Foundry Opens New Frontier in …
2024年4月18日 · Intel’s TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV tool from lithography leader ASML is now going through calibration steps in preparation for production of Intel’s future process …
Press Kit: High NA EUV at Intel
2024年4月18日 · Intel Foundry has received and assembled the industry’s first High Numerical Aperture (High NA) Extreme Ultraviolet (EUV) lithography system. The new tool provides the …
Intel 透露 4nm EUV 工艺进展：每瓦性能提升 20％ ，进展良好， …
EUV 光刻机应该是 Intel 当前量产 Intel 4/3 以及后续更多工艺的一个掣肘。 主要是因为 ASML 作为唯一的 EUV 光刻机供应商，供货水平根本就跟不上。 而 Intel 当前的 EUV 光刻机保有量远远 …
Intel completes assembly of first commercial High-NA EUV …
2024年4月18日 · Intel Foundry announced Thursday that it had completed the assembly of the industry's first commercial High Numerical Aperture (High-NA) Extreme Ultraviolet (EUV) …
首台商用High NA EUV光刻机完成组装，将助力Intel 14A工艺开发
2024年4月19日 · 资料显示，ASML的第一代High NA EUV（EXE:5000）的分辨率为 8nm，可以实现比现有EUV光刻机小1.7倍物理特征的微缩，从将单次曝光的晶体管密度提高2.9倍 ...
High-NA EUV光刻机入场，究竟有多强？ - 36氪
2 天之前 · 今年1月，ASML首台High-NA EUV光刻机的主要组件抵达英特尔，随后在3月初，英特尔分享了一段视频，展示了在英特尔位于美国俄勒冈州的 D1X 工厂内，ASML 工程团队安装 …
英特尔详解 Intel 3 工艺：应用更多 EUV 光刻，同功耗频率提升至 …
2024年6月19日 · Intel 3 是英特尔最后一代 FinFET 晶体管工艺，相较 Intel 4 增加了使用 EUV 的步骤，也将是一个长期提供代工服务的节点家族，包含基础 Intel 3 和三个变体节点。 其中 …
High-NA EUV lithography: The next leap in chip manufacturing
5 天之前 · Intel Foundry, the semiconductor manufacturing division of Intel, was the first company to complete the assembly of ASML’s first commercial High NA EUV lithography scanner about …
Intel has processed 30,000 wafers with High-NA EUV chipmaking …
2025年2月25日 · Intel has started using two leading-edge ASML High-NA Twinscan EXE:5000 EUV lithography tools, the company revealed on Monday at an industry conference, Reuters …
Intel completes assembly of world's most advanced EUV …
2024年4月18日 · Intel Corp.’s newly formed chip foundry business said today it has achieved a crucial milestone for the chipmaking industry by completing the assembly of the world’s first …