Product Fact Sheet Broadband plasma optical patterned wafer inspection system discovers defects that affect the yield and reliability of logic chips The 2935 provides high sensitivity discovery and binning of critical defects across a broad range of process layers, material types and process stacks.

With a light source that produces super resolution deep ultraviolet (SR-DUV) wavelength bands, low noise sensors and advanced algorithms, the 3935 and 3920 EP provide high sensitivity capture of unique defect types.

透过强化的电浆扫描光源技术以及全新的pixel•point™ 和 nano•cell™设计感知技术，2950和2955电浆扫描检测测仪配有卓越的灵敏度，能在各种制程层别、材料类型与制程堆叠中捕捉关键缺陷。 作为业内线上监测的标准，295x Series结合了灵敏度与光学晶圆检测速度，实现Discovery at the Speed of Light™ ，敏捷并全面检测缺陷以实现最佳拥有成本。 光谱宽频电浆扫描晶圆缺陷提供对10纳米及以下的逻辑和先进记忆体装置进行关键良率缺陷检测。 光学宽频电浆扫描晶圆 …

2014年7月9日 · KLA-Tencor推出四款新的系统——2920系列、Puma 9850、Surfscan SP5和eDR-7110——为16nm及以下的集成电路研发与生产提供更先进的缺陷检测与检查能力。

KLA has a comprehensive portfolio of defect inspection and review systems for advanced chip manufacturing, including additional Surfscan ® unpatterned wafer inspection systems and broadband plasma optical patterned wafer inspectors. Click here to learn more

2021年2月22日 · characterization was performed using a KLA 2935 broadband plasma optical patterned wafer inspector, a KLA eSL10 ™

在实际应用中光学多于电子束路线，因此光学型量测设备也多于电子束型设备。 目前行业标杆为KLA都2139（明场），PUMA 93系列/95系列暗场，无图形的KLA Surfacan为基准，国内常见就是SP3，SP5这种，几千万人民币一套。 基于光学的路线，又分明场和暗场两个系统。

Using enhanced broadband plasma illumination technologies, such as Super•Pixel™ mode and advanced detection algorithms, the 2965 and 2950 EP inspectors provide the sensitivity required to capture critical defects across a range of process layers, material types and process stacks.

查看KLA的A到Z产品词汇表，包括用于芯片，光罩，封装，复合半导体和HDD制造的检测，计量和数据分析系统。

KLA 缺陷检测操 作培训 2012-3-9 PH zhangju f1.在屏幕左边主菜单（Main）提示框中点击Run，进入量测菜单 f2.点击DERECTORY， 2.点击DERECTORY，在屏幕右边 点击DERECTORY Name>输入测量所需Recipe， 输入测量所需Recipe Name>输入测量所需Recipe，在随 后显示的Recip 后显示的Recip · 如果知道文件名，直接输入文件名， 如果 ...