透过强化的电浆扫描光源技术以及全新的pixel•point™ 和 nano•cell™设计感知技术，2950和2955电浆扫描检测测仪配有卓越的灵敏度，能在各种制程层别、材料类型与制程堆叠中捕捉关键缺陷。

The 2965 and 2950 EP broadband plasma defect inspection systems provide advancements in optical defect inspection, enabling discovery of yield-critical defects on ≤5nm logic and leading-edge memory design nodes.

The 2965 and 2950 EP broadband plasma defect inspection systems provide advancements in optical defect inspection, enabling discovery of yield-critical defects on ≤5nm logic and leading-edge memory design nodes.

The 2950 EP helps memory manufacturers: Accelerate R&D and ramp cycle time through characterization and optimization of new processes, design nodes and devices Implement defect reduction strategies to meet chip quality requirements Accelerate yield learning by providing accurate, actionable data on yield-critical defects Detect and characterize ...

View KLA's A to Z product listing of inspection, metrology and data analytic systems for chip, reticle, packaging, compound semi and HDD manufacturing.

在明场/暗场缺陷检测领域，KLA 同样处于领先地位，其明场缺陷检测设备主要分为 29xx 和39xx 两大系列，29xx 系列最新产品 2950/2955 和 39xx 系列 3920/3925 均可应用于 7nm 及以下节点；国产厂商中，上海精测明场光学缺陷检测设备已取得突破性订单，且已完成首台套 ...

2965および2950 EP検査装置は、Super-Pixel™モードや高度な検出アルゴリズムなどの強化された広帯域プラズマ照明技術により、さまざまなプロセス層、材料タイプ、プロセススタックにわたって重要な欠陥を検出するのに必要な感度を提供します。

一起共同用于制造创新的电子元件。为了确保芯片制造商所需的高性能和高生产效率,KLA全球综合服务网� 将对392x、295x 和eDR7380系统提供支持。有关新缺陷检测和检视系统

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2950和2955宽带等离子体缺陷检测仪使用增强的宽带等离子体照明技术，以及新的像素点™和纳米电池™设计感知技术，提供了捕获一系列工艺层、材料类型和工艺堆的关键缺陷所需的灵敏度。