The 29xx and 39xx optical broadband plasma wafer defect inspectors provide discovery of critical defects on advanced design node logic and memory devices. With complementary wavelength bands – DUV/UV/visible on the 29xx Series and super resolution DUV (SR-DUV) on the 39xx Series – the systems support defect inspection applications across a ...

• Tunable DUV, UV, visible broadband illumination source, with new spectral filter • Selectable optical apertures • Low-noise sensor • Super•Pixel™ inspection test mode for high throughput at sensitivity • Advanced defect detection algorithms, including MCAT • iDO™ 3.0 with advanced machine learning techniques for defect binning and nuisance sup...

规格型号：29xx，公司品牌：KLA Corporation。 直接联系品牌厂商，查询价格和经销网络。 寻找更多国外精选光学检查机产品和供应商采购信息，尽在DirectIndustry。

2024年9月25日 · 半导体检测领域的领头羊KLA科磊（简称KLA）的产品线广泛且深入，覆盖了半导体制造和相关电子行业的多个关键环节。 KLA的产品线主要包括用于检验、测量、数据分析的系统以及软件等，这些产品广泛应用于IC、晶圆和掩模的研发和制造过程中。

From the 290x to the 296x, the 29xx Series systems have been the inspection workhorse of the industry for over a decade with no end in sight. The 29xx Series inspectors discover design and process systematic defects during R&D and capture …

一起共同用于制造创新的电子元件。为了确保芯片制造商所需的高性能和高生产效率,KLA全球综合服务网� 将对392x、295x 和eDR7380系统提供支持。有关新缺陷检测和检视系统

在明场/暗场缺陷检测领域，KLA 同样处于领先地位，其明场缺陷检测设备主要分为 29xx 和39xx 两大系列，29xx 系列最新产品 2950/2955 和 39xx 系列 3920/3925 均可应用于 7nm 及以下节点；国产厂商中，上海精测明场光学缺陷检测设备已取得突破性订单，且已完成首台套 ...

2020年7月20日 · The combination of the eSL10 with KLA's flagship 39xx ("Gen5") and 29xx ("Gen4") broadband optical wafer defect inspection systems creates a powerful defect discovery and monitoring solution for advanced IC technologies.

2020年7月21日 · eSL10与KLA的旗舰39xx（“ Gen5”）和29xx（“ Gen4”）宽光谱晶圆缺陷检测系统的结合，为先进IC技术提供缺陷发现和监测解决方案。 这些系统共同合作，提高了产品的良率和可靠性，将更快地发现关键缺陷，并能够更快地解决从研发到生产的缺陷问题。

求晶圆厂重新考虑传统的缺陷控制策略。eSL10 与KLA的旗舰39xx(“ Gen5”) 和29xx(“ Gen4”) 宽光谱晶圆缺陷检测系统的结合,为先进的IC技� � 提供了强大的缺陷发现和监测解决方案。这些系统共同合作,提高了产品的良率和可靠性,将更快地发现关键缺陷,并