Patterned and unpatterned wafer defect inspection and review systems find, identify and classify particles and pattern defects on the front surface, back surface and edge of the wafer. This information allows engineers to detect, resolve and monitor critical yield excursions, resulting in faster yield ramp and higher production yield.

在明场/暗场缺陷检测领域，KLA 同样处于领先地位，其明场缺陷检测设备主要分为 29xx 和39xx 两大系列，29xx 系列最新产品 2950/2955 和 39xx 系列 3920/3925 均可应用于 7nm 及以下节点；国产厂商中，上海精测明场光学缺陷检测设备已取得突破性订单，且已完成首台套 ...

2020年3月25日 · KLA的392x系列和295x系列寬頻電漿晶圓缺陷檢測系統支援晶圓級缺陷發現、良率學習和在線監測，適用於≤7nm邏輯和先進的記憶體設計節點。

查看KLA的A到Z产品词汇表，包括用于芯片，光罩，封装，复合半导体和HDD制造的检测，计量和数据分析系统。

View KLA's A to Z product listing of inspection, metrology and data analytic systems for chip, reticle, packaging, compound semi and HDD manufacturing.

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Super Resolution Broadband Plasma Patterned Wafer Defect Inspection Systems The 392x Series broadband plasma defect inspection systems support wafer-level defect discovery, …

2019年7月8日 · With best-in-class image quality and the unique ability to deliver a complete defect pareto in one test, the eDR7380 e-beam wafer defect review system provides faster defect sourcing in development, faster excursion detection, …

2024年1月18日 · 借由光源技术所带来的超分辨率深紫外光（SR-DUV) 波长带以及创新传感器，3920和3925提供了卓越的缺陷类别检测。 392x Series配有先进的 pixel •point™和nano•cell™设计认知 算法，能够在对良率关键的图案位置捕获缺陷并对其分类。

2019年7月9日 · 该系统能够对脆弱的EUV光刻工艺层进行检视。 与KLA检测仪的独特结合可以缩短获取结果的时间，促进多种的KLA特定应用的使用，并通过智能采样和高效缺陷数据交换提升检测的灵敏度。