The 29xx and 39xx optical broadband plasma wafer defect inspectors provide discovery of critical defects on advanced design node logic and memory devices. With complementary wavelength bands – DUV/UV/visible on the 29xx Series and super resolution DUV (SR-DUV) on the 39xx Series – the systems support defect inspection applications across a ...

The 39xx Series has played a critical role in defect discovery for advanced devices and in the transition to EUV lithography. Utilizing a broadband wavelength range known as super resolution DUV (SR-DUV), the 39xx Series supports discovery of EUV stochastic defects and EUV reticle requalification using Print Check.

2020年7月20日 · The combination of the eSL10 with KLA's flagship 39xx ("Gen5") and 29xx ("Gen4") broadband optical wafer defect inspection systems creates a powerful defect discovery and monitoring solution for advanced IC technologies.

一起共同用于制造创新的电子元件。为了确保芯片制造商所需的高性能和高生产效率,KLA全球综合服务网� 将对392x、295x 和eDR7380系统提供支持。有关新缺陷检测和检视系统

在明场/暗场缺陷检测领域，KLA 同样处于领先地位，其明场缺陷检测设备主要分为 29xx 和39xx 两大系列，29xx 系列最新产品 2950/2955 和 39xx 系列 3920/3925 均可应用于 7nm 及以下节点；国产厂商中，上海精测明场光学缺陷检测设备已取得突破性订单，且已完成首台套 ...

2024年9月25日 · 半导体检测领域的领头羊KLA科磊（简称KLA）的产品线广泛且深入，覆盖了半导体制造和相关电子行业的多个关键环节。 KLA的产品线主要包括用于检验、测量、数据分析的系统以及软件等，这些产品广泛应用于IC、晶圆和掩模的研发和制造过程中。

2024年6月25日 · The 39xx inspectors continue the BBP legacy of utilizing sensitivity at speed to provide full wafer defect coverage and their unique wavelengths have been essential for the discovery of critical defects for advanced nodes.

2020年7月21日 · eSL10与KLA的旗舰39xx（“ Gen5”）和29xx（“ Gen4”）宽光谱晶圆缺陷检测系统的结合，为先进的IC技术提供了强大的缺陷发现和监测解决方案。 这些系统共同合作，提高了产品的良率和可靠性，将更快地发现关键缺陷，并能够更快地解决从研发到生产的缺陷问题。

2024年9月3日 · CryoTemp晶圆旨在校准、改善均匀性和匹配静电吸附盘 (ESC)上的温度曲线，可实现对等离子体蚀刻腔体的快速工艺表征和控制. 监测并记录晶圆在设备传送路径上的振动和加速度。 完成记录过程后，数据通过外部读取站下载到电脑中. 用于芯片制造厂的生产性机器学习平台；提高了关键缺陷 (DOI)的捕获率。 SPTS提供用于厚铝沉积的PVD工艺，以在300mm晶圆上形成焊盘。 是业界标准的裸晶圆几何测量系统。 晶圆制造商将其用于认证抛光和外延200mm硅晶圆.

2019年7月9日 · The system is equipped to support review of fragile EUV lithography process layers. Unique linkage to KLA inspectors reduces time to results, enables access to a broad range of KLA-specific applications, and improves inspection sensitivity through smart sampling and efficient exchange of defect data.