These three new products support KLA-Tencor's unique 5D™ patterning control solution, which addresses five elements of patterning process control—the three geometrical dimensions of device structures, time-to-results and overall equipment efficiency.

WaferSight PWG、LMS IPRO6 和 K-T Analyzer 9.0 是 KLA-Tencor 的综合 5D 图案成型控 制解决方案的组成部分，该解决方案还包括叠层对准、薄膜、关键尺寸和元件轮廓测量系统

KLA’s software solutions for the semiconductor ecosystem centralize and analyze the data produced by inspection, metrology and process systems, and explore critical-feature designs and manufacturability of patterning technologies.

5D Analyzer ® 为一种运行时工艺控制解决方案，具备支援之分析与可视化功能，用于先进节点工艺优化、工艺监制与图案控制。 本方案接受来自整座晶圆厂之各式数据，包括叠合、光罩对位、晶圆几何、腔体温度、薄膜、CD与剖面计量系统；工艺工具；以及扫描移等。 5D Analyzer ® 透过先进的叠合分析和光罩与晶圆形状数据之相关性，有效控制图案错误，应用于各式离线与实时场景，以达成先进图案控制。 aiSIGHT™ 软件解决方案利用获取的 SEM（扫描电子显微镜）图像 …

2015年2月19日 · The Archer 500LCM and SpectraFilm LD10 systems join the SpectraShape™ 9000 critical dimension and device profile metrology platform, K-T Analyzer® advanced data analysis system and many other process control systems in supporting KLA-Tencor's comprehensive 5D patterning control solution.

2015年2月19日 · KLA-Tencor’s metrology systems include multiple optical technologies enabling non-destructive, production-capable measurement of overlay, film thickness, critical dimension and device profile...

2015年3月5日 · 新系统为 KLA-Tencor 独一无二的 5D™ 图型控制方案的关键产品，可通过对整个半导体厂工艺的检视和监控来推动最优图型结果。 KLA-Tencor 参数化方案集团副总裁 Ahmad Khan 表示：“作为无损光学测量的业界领先公司，我们与客户密切协作，以了解他们在优化图型套 …

2014年8月29日 · WaferSight PWG、LMS IPRO6和K-T Analyzer 9.0是KLA-Tencor的综合5D图案成型控制解决方案的组成部分，该解决方案还包括叠层对准、薄膜、关键尺寸和元件轮廓测量系统以及PROLITH 光刻和图案成型模拟器。

2017年9月14日 · 5D Analyzer® X1先进数据分析系统提供开放架构的基础，以支持晶圆厂量身定制分析和实时工艺控制的应用。这五款新系统拓展了KLA-Tencor的多元化量测、检测和数据分析的系统组合，从而可以从根源上对工艺变化进行识别和纠正。

2022年12月6日 · KLA’s comprehensive portfolio of inspection, metrology & data analytic systems helps manufacturers manage yield through the entire IC fabrication process.