Patterned and unpatterned wafer defect inspection and review systems find, identify and classify particles and pattern defects on the front surface, back surface and edge of the wafer. This information allows engineers to detect, resolve and monitor critical yield excursions, resulting in faster yield ramp and higher production yield.

brightfield inspector ensures maximum sensitivity over a broad range of immersion litho materials and defect types. Immersion lithography is a key enabling technology for 65nm and 45nm device patterning.

多设备公司都在忙着缩减计划，并延迟推出新平台，但 KLA-Tencor 仍继续大力投入开发下一 代产品，其中包括针对 3Xnm 和 2Xnm 节点的两套创新型晶圆缺陷检测系统和一种独特的再

KLA has a comprehensive portfolio of defect inspection and review systems for advanced chip manufacturing, including additional Surfscan ® unpatterned wafer inspection systems and broadband plasma optical patterned wafer inspectors.

2014年7月9日 · KLA-Tencor推出四款新的系统——2920系列、Puma 9850、Surfscan SP5和eDR-7110——为16nm及以下的集成电路研发与生产提供更先进的缺陷检测与检查能力。

透过强化的电浆扫描光源技术以及全新的pixel•point™ 和 nano•cell™设计感知技术，2950和2955电浆扫描检测测仪配有卓越的灵敏度，能在各种制程层别、材料类型与制程堆叠中捕捉关键缺陷。 作为业内线上监测的标准，295x Series结合了灵敏度与光学晶圆检测速度，实现Discovery at the Speed of Light™ ，敏捷并全面检测缺陷以实现最佳拥有成本。 光谱宽频电浆扫描晶圆缺陷提供对10纳米及以下的逻辑和先进记忆体装置进行关键良率缺陷检测。 光学宽频电浆扫描晶圆 …

For 40 years our broadband plasma (BBP) patterned wafer inspectors have been at the forefront of defect discovery for the semiconductor industry. Introduced in 1984, the KLA 2020 was the first automated patterned wafer inspection system for chip production, replacing manual inspection by human operators.

2022年12月9日 · 半导体量检测设备是第四大制程设备环节，诞生大公司KLA。量检测设备的市场 规模小于刻蚀、薄膜沉积设备、光刻机，但大于清洗设备、CMP、离子注入、 Track、电镀等环节。2021年，按销售额计，前道量检测设备全球市场规模104

2016年7月15日 · 两款宽波段等离子光学检测仪可在大约1小时内提供完整的晶圆检测，允许采集晶圆级和批次级缺陷数据，藉此全面理解和迅速调试复杂的工艺问题。 在3900系列和2930系列两套系统上，均借鉴了通过pin•point™和super•cell™获得的设计信息——在关键特性（包括与设计弱点相关的那些特性）方面改善对于良率限制缺陷的灵敏度，以及减少与诸如测试图案等非关键特性相关之杂讯的专利技术。 eDR7280电子束检查系统具备增强型影像记录和自动缺陷分类能力， …

与kla检测仪的独特结合可以缩短获取结果的时间，促进多种的kla特定应用的使用，并 通过智能采样和高效缺陷数据交换提升检测的灵敏度。 392x、