The eSL10™ e-beam patterned wafer defect inspection system captures and identifies defects not found by other inspectors, reducing the cycle time required for solving critical yield or reliability issues.

eSL10™电子束图案化的晶圆缺陷检查系统可以捕获并识别其他检测设备未发现的缺陷，从而缩短了解决影响良率或可靠性等关键问题所需的时间周期。 通过在芯片制造过程的早期提供对关键缺陷的深入了解，eSL10有助于加快创新型电子产品的上市时间。

esl10 与kla 的旗舰39xx（“ Gen5”）和29xx（“ Gen4”）宽光谱晶圆缺陷检测系统的结合，为先进的IC 技术提供了强大的缺陷发现和监测解决方案。

2020年7月20日 · The combination of the eSL10 with KLA's flagship 39xx ("Gen5") and 29xx ("Gen4") broadband optical wafer defect inspection systems creates a powerful defect discovery and monitoring solution for advanced IC technologies. Together these systems accelerate yield and reliability, finding critical defects faster and enabling quicker resolution of ...

2020年7月21日 · kla公司宣布推出esl10™电子束图案化晶圆缺陷检查系统。 该系统具有独特的检测能力，能够检测出常规光学或其他电子束检测平台无法捕获的缺陷，从而加速了高性能逻辑和存储芯片的上市时间（包括那些依赖于极端紫外线（EUV）光刻技术的芯片）。

7月20日，KLA公司宣布推出革命性的eSL10™电子束图案化晶圆缺陷检查系统。 该系统具有独特的检测能力，能够检测出常规光学或其他电子束检测平台无法捕获的缺陷，从而加速了高性能逻辑和存储芯片的上市时间（包括那些依赖于极端紫外线EUV光刻技术的芯片）。 eSL10的研发是始于最基本的构架，针对研发生产存在多年的问题而开发出了多项突破性技术，可提供高分辨率，高速检测功能，这是市场上任何其他电子束系统都难以比拟的。 KLA电子束部门总经理Amir …

2022年12月9日 · KLA Instruments Webinars. Follow us. eSL10™ E-beam Wafer Defect Inspection System

2020年7月21日 · kla公司宣布推出革命性的esl10™电子束图案化晶圆缺陷检查系统。 该系统具有独特的检测能力，能够检测出常规光学或其他电子束检测平台无法捕 | 首页 |

KLA 日前提出革命性的 eSL10 电子束图案化晶圆缺陷检查系统，且该系统也导入深度学习算法，将人工智能系统运用于其中。 KLA 指出，eSL10 的研发是始于最基本的构架，针对研发生产存在多年的问题来寻求突破口，可提供高分辨率、高速检测功能，是目前市场上任何其他电子束系统都难以比拟的。 KLA 近一步指出， 该技术可以辅助极紫外线（EUV）光刻技术的芯片，因为它能检测出常规光学或其他电子束检测平台无法捕获的缺陷。 eSL10 电子束检测系统能弥补对关 …

esl10 與kla 的旗 艦39xx (“Gen5”) 和 29xx (“Gen4”)寬帶光學晶片缺陷檢測系統相結合，為先進IC 技術 提供了強大的缺陷檢測和監控解決方案。