Reticle Manufacturing - KLA
Using KLA’s proprietary model-based metrology algorithm, the LMS IPRO7 measures pattern placement error for both targets and multiple on-device pattern features with high accuracy, …
光学测量系统 - LMS IPRO series - KLA Corporation - 晶圆用 / 用于 …
采用 KLA专利的模型量测算法,LMS IPRO7可以高精度地测量目标和多个器件上图案器件上多个特征图案定位误差， 为IC制造厂提供全面表征信息，减少由光罩引起的的器件叠对误差。 应用 …
KLA-Tencor推出五款用于7nm以下IC制造的图案成型控制系统
2017年9月14日 · 通过升级和新设备安装，Teron 640e和LMS IPRO7进一步增加了KLA-Tencor在尖端掩模厂中众多的光罩检测和量测系统的安装数量。 为了保持IC制造所需要的高性能和高 …
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即时发布 - KLA
通过升级和新设备安装，Teron 640e 和LMS IPRO7 进一步增加了KLA-Tencor 在尖 端掩模厂中众多的光罩检测和量测系统的安装数量。 为了保持IC制造所需要的高性能和高产
Optical measurement system - LMS IPRO series - KLA Corporation …
Using KLA’s proprietary model-based metrology algorithm, the LMS IPRO7 measures pattern placement error for both targets and multiple on-device pattern features with high accuracy, …
从源头开始的制程控制 - KLA
KLA先进的图形控制系统帮助IC制造商达到7nm以下的逻辑和存储器设计节点所需的制程误差容忍度。 我们的五个新系统是全系列量测，检测和分析系统组合中的关键组件 – 建立在开放式架 …
KLA-Tencor Introduces Five Patterning Control Systems ... - KLA …
ATL, SpectraFilm F1, Teron 640e, LMS IPRO7 and 5D Analyzer X1 are part of KLA-Tencor's unique 5D Patterning Control Solution™, which also includes systems for patterned wafer …
光学測定システム - LMS IPRO series - KLA Corporation - ウェ …
lms ipro7は、kla独自のモデルベース計測アルゴリズムを使用して、ターゲットと複数のオンデバイスパターンフィーチャーの両方のパターン配置エラーを高精度で測定し、icファブにおけ …
KLA-Tencor公司针对7纳米以下的IC制造推出五款图案成型控制系统 …
2017年9月17日 · 通过升级和新设备安装，Teron 640e和LMS IPRO7进一步增加了KLA-Tencor在尖端掩模厂中众多的光罩检测和量测系统的安装数量。 为了保持IC制造所需要的高性能和高 …
KLA-Tencor patterning control systems for sub-7nm IC …
2017年9月12日 · KLA-Tencor has introduced five patterning control systems that help chipmakers achieve the strict process tolerances required for multi-patterning technologies and EUV …