KLA’s portfolio of reticle inspection, metrology and data analytics systems help blank, reticle and IC manufacturers identify reticle defects and pattern placement errors, thereby reducing yield risk.

2011年6月7日 · The next-generation system, the LMS IPRO5, is designed to support the stringent precision and repeatability requirements for pattern placement metrology of reticles supporting advanced lithography techniques and 3Xnm to 2Xnm node devices.

2017年9月14日 · ATL、SpectraFilm F1、Teron 640e、LMS IPRO7和5D Analyzer X1是KLA-Tencor独特的5D图案成型控制解决方案™的一部分，它还包括用于图案化晶圆形貌测量，工艺实测，线宽和器件轮廓测量，光刻和图案成型模拟，以及发现关键易失效点的系统。

采用 KLA专利的模型量测算法,LMS IPRO7可以高精度地测量目标和多个器件上图案器件上多个特征图案定位误差， 为IC制造厂提供全面表征信息，减少由光罩引起的的器件叠对误差。 应用 光罩认证，出厂光罩质量检查，光罩写入仪认证和监控，光罩工艺监控，晶圆图案化控制 相关产品 LMS IPRO6: 用于10nm设计节点的光罩量测系统，能够测量标准定位标记和器件上图形特征。 LMS IPRO4: 用于32nm / 28nm设计节点的光罩测量系统。 LMS IPRO4在行业内独具灵活的4寸 …

查看KLA的A到Z产品词汇表，包括用于芯片，光罩，封装，复合半导体和HDD制造的检测，计量和数据分析系统。

WaferSight PWG, LMS IPRO6 and K-T Analyzer 9.0 are part of KLA-Tencor's comprehensive 5D patterning control solution, which also includes overlay, films, critical dimension and device profile metrology systems and the PROLITH™ lithography and patterning simulator.

ATL、SpectraFilm F1、Teron 640e、LMS IPRO7 和5D Analyzer X1 是KLA-Tencor 独特的 5D 图案成型控制解决方案™的一部分，它还包括用于图案化晶圆形貌测量，工艺实测，线宽

Using KLA’s proprietary model-based metrology algorithm, the LMS IPRO7 measures pattern placement error for both targets and multiple on-device pattern features with high accuracy, enabling characterization and reduction of reticle-related contributions to …

LMS IPRO7は、KLA独自のモデルベース計測アルゴリズムを使用して、ターゲットと複数のオンデバイスパターンフィーチャーの両方のパターン配置エラーを高精度で測定し、ICファブにおけるデバイスオーバーレイ誤差へのレチクル関連の寄与を特性化し、低減することを可能にします。 用途 レチクル認定、出荷レチクル品質チェック、マスクライター認定およびモニタリング、レチクルプロセスモニタリング、ウェーハパターニングコントロール 関連製品 LMS …

2014年8月29日 · KLA-Tencor公司日前宣布推出WaferSight PWG已图案晶圆几何形状测量系统、LMS IPRO6光罩图案位置测量系统和K-T Analyzer 9.0先进数据分析系统。 这三种新产品支持KLA-Tencor独特的 5D图案成型控制解决方案，此方案着重于解决图案成型工艺控制上的五个主要问 …