also analyzed by AFM measurement. The morphol-ogy of the 30 and the 150 nm films was investigated by transmission electron microscopy (TEM). Trans-mission and reflection spectra of the 150 nm LaF 3 samples were measured with a Lambda 850 (Perkin Elmer) spectrometer in the range of 175–300 nm, whereas the measuring device was purged continu-

2024年11月29日 · 在多层AR涂层中，接口粗糙度通过原子力显微镜（AFM）测量获得，并通过模拟作为均匀子层，考虑其对多层光谱的影响。 AR涂层中子层的孔隙率通过逆向工程涂层/基底/涂层堆叠的剩余反射率获得。 然后，将获得的折射率和厚度用于分析和优化193 nm AR涂层的光谱性能。 对于强曲率球面表面，通过同时考虑球面基底不同位置的性能函数，优化了AR涂层的光谱均匀性。 该工作为193 nm AR涂层在宽入射角范围和强曲率球面基底上的性能优化提供了一个通 …

The variation of surface morphology with varying thickness of the deposited Lanthanum Fluoride (LaF3) spin coated thin films was analyzed by Atomic Force Microscopy (AFM) and Optical Microscope (OM). Transmittance and Reflectance of the films were measured by Perkin-Elmer λ-19 Spectrophotometer in the wavelength range of 200 nm to 1100 nm for ...

2024年11月5日 · 表面粗糙度由NanoScope III PSI原子力显微镜（AFM）获得，每个样品的测量误差在0.1nm以内，扫描面积为5μm×5μm。 通过 Leica DMR 偏光光学显微镜研究了样品的表面形貌。

2024年11月29日 · 在多层AR涂层中，接口粗糙度通过原子力显微镜（AFM）测量获得，并通过模拟作为均匀子层，考虑其对多层光谱的影响。 AR涂层中子层的孔隙率通过逆向工程涂层/基底/涂层堆叠的剩余反射率获得。 然后，将获得的折射率和厚度用于分析和优化193 nm AR涂层的光谱性能。 对于强曲率球面表面，通过同时考虑球面基底不同位置的性能函数，优化了AR涂层的光谱均匀性。 该工作为193 nm AR涂层在宽入射角范围和强曲率球面基底上的性能优化提供了一个通 …

2008年6月1日 · It is shown that LaF (3) thin films deposited on CaF (2) (111) substrates are monocrystalline and have a bulklike dense structure. Furthermore, it is presented that low-loss LaF (3) thin films can...

结果表明，离子束溅射镀制的LaF3薄膜折射率最高、表面粗糙度最低，但吸收较大；电子束蒸发法虽然吸收最小，但是折射率偏低且表面粗糙度较高；热舟蒸发法镀制的LaF3薄膜无论折射率、消光系数还是表面粗糙度都处于3种方法中间位置。

LaF3 is alpha bismuth trifluoride structured and crystallizes in the cubic Fm-3m space group. The structure is three-dimensional. La3+ is bonded in a distorted body-centered cubic geometry to fourteen F1- atoms. There are eight shorter (2.54 Å) and six longer (2.93 Å) La–F bond lengths. There are two inequivalent F1- sites.

LaF3 thin films of different thicknesses were deposited on CaF2 (111) and silicon substrates at a relatively low substrate temperature of 150 °C. Optical (transmittance, reflectance, refractive index, and extinction coefficient) and mechanical (morphology and crystalline structure) properties have been investigated and are discussed.

用电子束蒸发方法制造了Al2O3、LaF3单层膜，对比研究了沉积速率和基板温度对薄膜紫外（193 nm）光学特性、微结构的影响.实验结果表明,LaF3在紫外波段的光学损耗明显小于Al2O3.AFM测试发现,在相同的工艺条件下,Al2O3表面粗糙度大于LaF3,且3薄膜表面粗糙度随基板温度 ...