MKS 的 FTIR 光谱气体分析仪能够达到 ppb 至 ppm 的灵 敏度，适用于各种气体分析应用中的多种气体种类，例如有 毒气体检测、汽车排放物测定、监测烟气排放、工艺和环境空

MKS provides multiple options for radical generation including Toroidal and Microwave based Remote Plasma Sources supporting Fluorine, NF3, oxygen, nitrogen and hydrogen process chemistries

The RPS-CM12P1, 12 kW remote plasma source provides for radical enhanced deposition or selective etch pre-clean processes in Atomic Layer Deposition (ALD), Chemical Vapor Deposition (CVD), or Physical Vapor Deposition (PVD) processes.

mks rps ax7695是一款高性能的远程等离子源设备，广泛应用于半导体制造、光伏制造、显示器制造等领域。它能够产生高密度、均匀的等离子体，并提供精确可控的等离子体参数，为各种薄膜沉积、刻蚀等工艺提供所需的等离子体环境。

MKS R*evolution® III Remote Plasma Source AX7695 是一款用于半导体晶圆加工的远程等离子体源。 它采用创新的射频 (RF) 功率源和腔室设计，可提供高密度、均匀的等离子体，适用于各种刻蚀、沉积和清洗应用。

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mks 是全球最著名的先进生产工艺控制设备供应商之一，其产品广泛地应用于各种半导体器件、平板显示器、太阳能电池、led、光学储存介质、玻璃镀膜、光电产品等生产设备及制药和医学成像设备。

摘要：目前的MKS系列集成式压力控制器本质上是一种流量调节和测量装置，无法直接用来进行准确的压力控制，而且MKS压力控制器还存在测量精度不高、压力控制范围有限和对工作介质洁净度要求很高的不足。 为此，为了弥补这些不足，特别是为了实现国产替代，本文为提出了相应的解决方案，特别是针对不同的应用场景提出一系列的国产替代的配套解决方案，这些解决方案已经在推广使用并可实现高精度的真空压力控制。 原文阅读：（PDF格式） 1. MKS集成式压力控制器 …

2024年10月28日 · MKS ASTRON2L RPS 半导体远程等离子源是在半导体产线沉积和蚀刻室清洁工艺中的发挥关键作用的子组件，可以消除工艺副产物从室壁积聚，增加工艺工具的寿命，并减少薄膜污染的来源。 MKS ASTRON2L RPS 半导体远程等离子源是经过长期验证的具有优良性能和高可靠性的高性能远程等离子体源，是沉积和蚀刻室清洁工艺的关键子组件，消除了工艺副产物从室壁积聚，增加工艺工具的寿命，并减少薄膜污染的来源。 ASTRON Series RPS 广泛应用在 …

For cleaning CVD and ALD/ALE process chambers, the Paragon remote plasma source is designed for high gas dissociation rates (>98%) of NF3 with gas flows up to 8 slm and pressures up to 10 Torr. This leading-edge performance translates into increased process throughput and repeatable process results.