PECVD概念（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition）：等离子体增强化学气相沉积是一种在真空环境下利用射频电场使反应气体等离子化并在衬底上进行化学反应沉积的薄膜制备技术。

PECVD技术是在低气压下，利用低温等离子体在工艺腔体的阴极上（即样品放置的托盘）产生辉光放电，利用辉光放电（或另加发热体）使样品升温到预定的温度，然后通入适量的工艺气体，这些气体经一系列化学反应和等离子体反应，最终在样品表面形成固态薄膜。 其工艺原理示意图如图1所示。 图1 PECVD工艺原理. 在反应过程中，反应气体从进气口进入炉腔，逐渐扩散至样品表面，在射频源激发的电场作用下，反应气体分解成电子、离子和活性基团等。 这些分解物发生 …

射频增强等离子体化学气相沉积（RF-PECVD）是一种在基底上沉积多晶薄膜的复杂技术。 这种方法利用辉光放电等离子体的能量来影响低压化学气相沉积过程，从而提高薄膜形成的质量和效率。 RF-PECVD 的起源可以追溯到 1994 年，当时日本柯尼卡公司首次提出了这种方法，并以其主要使用射频（RF）产生等离子体而命名。 射频-PECVD 工艺的特点是使用两种主要的射频电场耦合方法：电感耦合和电容耦合。 这些方法对等离子体生成的效率和效果起着至关重要的作用，而 …

mwecr-pecvd技术巧妙地结合了微波与磁场，利用电子的回旋共振效应在真空环境中产生高活性、高密度的等离子体，从而引发气相化学反应。 这一技术能够在低温条件下制备出高质量的薄膜。

等离子增强化学气相沉积，英文全称：Plasma Enhancd Chemical Vapor Deposition，简称：PECVD，它是半导体行业中常用的一种薄膜沉积技术。 这种技术结合了化学气相沉积（CVD）的基本原理与等离子体技术，可以生产高品质的薄膜并精确地控制其属性。 区别于传统的CVD技术，PECVD通过使用等离子体来提高沉积效率，使其能在更低的温度条件下进行材料沉积。 在PECVD技术中，使用低气压下的低温等离子体在沉积室的阴极触发辉光放电。 此过程或 …

每个chamber 2个pump， PECVD一共100ea Process Pump。 拆下黑色的加强筋和Body Heater，在PC侧有Docking Screw，从Slit Valve中间往两边Lose Screw，等待30分钟 左右以使Slit Valve的应力释放出来，恢复水平；将Washer 加在加强筋的下表面 (上图所示)，从中间往两边逐渐紧固 加强筋 Fix Screw。 将flap door门开一长条分缝隙之后通过o-ring密封，这样可以改变门的硬度。 在TC侧有形变时 flap door也可以跟随变动从而防止 o-ring与其接触面产生位移而发 …

2024年9月19日 · PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition），即等离子增强化学气相沉积技术，是光伏制造中的主要设备之一，广泛应用于太阳能电池板的制备过程中。 下面就来详细揭秘一下PECVD吧！

The vacuum and pressure control system is a critical component of PECVD equipment, comprising a variety of mechanical and electronic elements designed to maintain the optimal operating conditions within the process chamber. This system includes mechanical pumps, molecular pumps, roughing valves, pre-stage valves, gate valves, and vacuum gauges ...

PECVD is an essential process for depositing thin films in various applications, including microelectronics, optics, and sensors. Despite its advantages, such as low-temperature deposition and high uniformity, PECVD has some disadvantages, such as …

pecvd, sacvd CVD or Chemical Vapor Deposition is a technology used to deposit thin films by exposing the substrate to one or more volatile precursors, which react and/or decompose on the surface. Plasma (for PECVD) or temperature (for SACVD) …