含氟树脂化合物、含其的光刻胶组合物及其合成方法与流程
2020年4月29日 · 在比较传统的novolak正性光刻胶之后，基于化学放大(或化学增幅)概念、t-boc保护的对羟基苯乙烯类树脂(phs树脂)的krf光刻胶掀起了光刻胶材料的革命，极大地推动了ic的高 …
Chemically amplified resists and acid amplifiers - ScienceDirect
2016年1月1日 · The first widely available EUV resists were simply extensions of the previously developed Environmentally Stable Chemical Amplification Photoresist (ESCAP) resists based …
酸分解性ポリマーは,ポリ(p-ヒドロキシ)スチレンを幹ポリマーに用いた,いわゆる“エチルアセタール系”ポリマー(ポリ(p-1-エトキシエトキシスチレン系))とt-ブチルアクリレートを共重合し …
We have been investigating fluorinated resist polymers for EUV lithography. Styrene polymers with HFA Unit show a high sensitivity relative to ESCAP type polymers. This result indicate …
一种PHS树脂的制备方法与流程 - X技术网
2024年7月30日 · phs树脂作为光刻胶成膜树脂，在光刻胶中起到骨架的作用，它影响光刻胶的粘附性、柔韧性及抗蚀性。 树脂成膜后的粘附性随着分子量的增加而增加，但溶解速率和柔韧性 …
(PDF) New ESCAP-type resist with enhanced etch ... - ResearchGate
1997年1月1日 · In this paper, we will discuss the UV4 and UV5 photoresist systems based on the ESCAP materials platform. The resist based on this polymer system exhibits excellent delay …
In the future, manufacturing users will work with photoresist manufacturers to R&D photoresist for KRF process with smaller CD. Resist B (low activation energy) improves the contrast and …
escap类型树脂 - 百度文库
【escap类型树脂】是一种特殊的树脂材料，具有优异的耐高温、耐化学腐蚀和耐磨损性能，被广泛应用于航空航天、汽车、电子等领域。在最近几年，随着科学技术的不断发展，escap类型 …
一种分子量窄分布且高透光性PHS树脂及其合成方法与应用 …
2022年9月8日 · 本发明提供的phs树脂，包含式(i)所示的结构通式；本发明还提供phs树脂的合成方法，其是以单体a、单体b、单体c和单体d为原料通过阴离子共聚得到的。 本发明还提供一种 …
一种ESCAP型光刻胶及其使用方法
2023年11月17日 · 本发明提供的ESCAP型正性KrF光刻胶，能够在孔洞和沟槽等暗场图形时具有良好的解析能力，形成形貌良好的光刻图形。 1.一种ESCAP型正性光刻胶，其特征在于：所述 …
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