等离子体化学气相沉积 - 百度百科
等离子体化学气相沉积（ plasma chemical vapor deposition）简称PCVD，是一种用等离子体激活反应气体,促进在基体表面或近表面空间进行化学反应,生成固态膜的技术。 等离子体化学气相 …
什么是物理化学气相沉积 (PCVD)？薄膜应用的混合解决方案
pcvd 是一种混合薄膜沉积技术，融合了物理和化学过程。 它首先对源材料进行物理气化（类似于 PVD），然后通过化学反应（类似于 CVD）将材料沉积到基底上。
Lpcvd、Pecvd 和 Icpcvd 工艺的比较与应用分析 - Kintek Solution
LPCVD、PECVD 和 ICPCVD 是三种常用的化学气相沉积 (CVD) 技术，每种技术都有其独特的材料沉积方法、设备规格和工艺条件。 这些技术在各行各业都发挥着举足轻重的作用，尤其是 …
薄膜沉积设备解析——PECVD/LPCVD/ALD设备的原理和应用 - 知乎
化学气相沉积 (CVD) 是指通过气体混合的化学反应在硅片表面沉积一层固体膜的工艺，根据反应条件（压强、前驱体）的不同又分为常压CVD（APCVD）、低压CVD（LPCVD）、等离子体增 …
一文超详细解读APCVD、LPCVD、PECVD、ALD及MOCVD设备及 …
Jun 26, 2023 · APCVD（Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition），常压化学气象沉淀法，通常是指在标准大气压下利用气体化合物在固体基板上发生化学反应生成薄膜的工艺。 …
Plasma-enhanced chemical vapor deposition - Wikipedia
Plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a chemical vapor deposition process used to deposit thin films from a gas state (vapor) to a solid state on a substrate. Chemical …
长飞pcvd工艺生产多模光纤的优势 张方海 长飞多模光纤采用等离子体激活化学气相沉 积（简称pcvd）工艺制造。对于渐变折射率多模 光纤（gimm），管内法（包括mcvd和pcvd）为主 流 …
等离子体增强化学气相沉积 - 百度百科
等离子体增强化学气相沉积（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD）技术是一种在沉积腔室利用辉光放电使其电离后在衬底上进行化学反应沉积的半导体薄膜材料制备和其 …
PECVD 和 HDPCVD 有什么区别？薄膜沉积的关键见解
PECVD（等离子体增强化学气相沉积）和 HDPCVD（高密度等离子体化学气相沉积）是 CVD 的先进变体，可以解决其中的一些局限性。 PECVD 使用等离子体来增强化学反应，因此加工温 …
高密度等离子体化学气相沉积（HDPCVD）的原理及其优缺点 - 与 …
Aug 16, 2024 · 高密度等离子体化学气相沉积（HDPCVD）是一种重要的薄膜沉积技术，广泛应用于半导体、光电子、显示器件等领域。 该技术通过产生高能量和高密度的等离子体来实现对 …
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