28模拟IC学习记录-轻掺杂漏（LDD）离子注入工艺 - 知乎
通过 微影技术 将PLDD掩膜版上的图形转移到晶圆上，形成PLDD的光刻图案，非PLDD区域上保留光刻胶。 PLDD是用于控制PMOS管漏极轻掺杂，削弱HCI效应。 PLDD掩膜版是通过逻辑 …
smic018工艺中NLL、PLL、NLH、PLH这几层求解释 - 后端讨论区
2013年8月23日 · 最近在看smic180nm的工艺，看到有这么几层不知道是干什么的，NLL（1.8v NLDD Implantation）、PLL（1.8v PLDD Implantation）、NLH（5v NLDD Implantation） …
经皮激光椎间盘汽化减压术 - 百度百科
经皮激光椎间盘汽化减压术（PLDD，Percutaneous Laser Disc Decompression） 是治疗颈、腰椎间盘突出的新方法。 治疗过程用一根纤细的光导纤维发出脉冲激光，将突出的椎间盘部分髓 …
光刻PN结CMOS工艺流程详解说 - CSDN博客
2024年5月2日 · STI填充：HDP高密度等离子淀积STI槽，用其他机器填充会提前将STI槽封死，里面会出现空洞，HDP机台是一遍淀积，一遍刻蚀，可以防止提前封口； （5）简单的做法是直 …
CMOS制造中的轻掺杂漏 (LDD)注入工艺 – 芯片版图
2011年8月4日 · 随着栅的宽度不断减小，栅结构下的沟道长度也不断的减小， 为了有效的防止短沟道效应，在集成电路制造工艺中引入了 轻掺杂漏工艺（LDD），当然这一步的作用不止于 …
微电子领域材料生长方法（七）脉冲激光沉积（PLD）_等离子体羽 …
2024年4月28日 · 脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，简称PLD）是一种先进的薄膜制备技术，它利用高能脉冲激光束照射固体靶材，产生高温等离子体，进而在基底上形成薄膜。 这 …
任龙喜：经皮激光椎间盘髓核汽化术(PLDD)相关问题讨论 - 丁香园
2011年12月26日 · 在北京率先应用“PLDD（经皮激光椎间盘减压术）” 治疗颈椎病，现已治疗颈腰椎病人300余例，收到了良好的临床疗效。 2004 年在国际上首次报道 “ 旋后肌综合征诱发加 …
29模拟IC学习记录-侧墙工艺 - 知乎 - 知乎专栏
2023年9月16日 · 侧墙工艺是指通过形成环绕多晶硅的氧化介质层，防止重掺杂的源漏离子注入工艺把离子注入到LDD结构的扩展区，从而保护LDD结构。 侧墙是由两个主要工艺步骤形成， …
纳米集成电路制造工艺(第2版)张汝京 - 芯知社区
多晶栅层叠图形化以后形成再氧化，补偿和主隔离结构，接着完成NMOS和PMOS的LDD和源/漏注入掺杂。 在这之后，沉积一层介质层，通过图形化，刻蚀和钨塞 (W plug)填充形成接触孔。
做MASK的时候PLDD与NLDD层的算法大概是什么样的？ - mweda
NLDD &PLDD 不光光是PPLUS NPLUS 做出来的用来降低hot carrier 用的。 在有的高压工艺上有单独的这两层，用来降低漏断的漂移区. 我现在用的是40VBCD工艺，看JDV上的信息NLDD层 …