2021年12月21日 · DUV已经能满足绝大多数需求：覆盖7nm及以上制程需求。 DUV和EUV最大的区别在光源方案。 EUV的光源波长为13.5nm，但最先进DUV的光源波只有193nm，较长的波长使DUV无法实现更高的分辨率，因此DUV只能用于制造7nm及以上制程的芯片。

干式DUV采用的是空气作为光线传播的介质，浸润式DUV采用的是水来做光线传播的介质，而光线在水中产生折射，193nm波长的光源，折射后等效成13nm了，波长更短，于是分辨率更高了。

5 天之前 · Flight status, tracking, and historical data for South African Airways 52 (SA52/SAA52) including scheduled, estimated, and actual departure and arrival times.

2025年1月3日 · 这款光刻机已经达到了ArF光刻机的顶级水平 ，再进一步就是浸润式DUV光刻机（ArFi）了。 两个消息相互印证说明， 国产浸润式DUV光刻机 （ArFi）确实取得了重大突破 ； 实际上 ArF光刻机与浸润式DUV光刻机在光源和工作台方面相似，主要区别在于浸润式系统，即在 ...

色偏差值Δu'v'（也标为Duv），表示在CIE 1960 座标系里色彩偏移普朗克轨迹的距离与方向，随着同时判断CCT 与Duv，可以更直觉的了解完整的白光色度资讯，Duv表示该颜色与黑体轨迹上同色温点的色差， 最大…

EUV, DUV, XUV 以及 UV, VUV 都是电磁波波段分类的简称。 XUV：0.1～10nm. （3）注意：波长不是分辨率！ 他们之间的关系是 分辨率=k*波长/NA. NA是数值孔径；k 是常数，由成像系统决定，一般为0.5 或 0.61. EUV, DUV, XUV 以及 UV, VUV 都是电磁波波段分类的简称。 （1）它们的全称分别是UV = ultraviolet EUV = extremely ultraviolet VUV = vacuum ultraviolet DUV = deep ultraviolet XUV = X-ran ultraviolet（2）它…

Testing: Alternating coats of BARC and APEX allowed to air dry on polyethylene strip. Above solvents dissolve film in 30 seconds with no residue or solids precipitated in solvent. No pre-bake may be required on hotplates with proximity baking. Cure temperature and time must be optimized for individual resist systems.

工信部公开推广两款国产 DUV 光刻机，国产 DUV 光刻机在研发过程中遇到了哪些主要的技术难题？ 9月9日，工信微报微信公众号发文披露《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。 其中，在电子专用设备一栏， 氟化氪光刻机、氟化氩光刻机… 9月9日，工信微报微信公众号发文披露《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。 其中，在…

duv光路主要依赖光的折射原理，而euv则采用光的反射原理。 此外，DUV使用193nm波长的紫外光作为光源，而EUV则选用波长在10-14nm范围内的极紫外光。 由于极紫外光极易被介质吸收，且在空气中会迅速损耗，因此只有在真空环境中才能最大程度地保持光源能量的 ...

2025年1月1日 · duv光刻技术，作为半导体制造中的老牌选手，其工作原理基于深紫外光的光化学反应。 这种技术主要使用波长为193nm至248nm的深紫外光，通过精密的光学系统将光束聚焦到光刻胶上。