Deposition NT333™ Series | Products and Service(products)
NT333™ is TEL’s first semi-batch chamber for ALD (Atomic Layer Deposition). It offers thin film thickness control at the atomic level while providing exceptional film quality and high …
Products - Tokyo Electron Ltd.
TEL's first semi-batch ALD (atomic layer deposition) system for 300mm wafers. Employing original deposition technique, the system achieves excellent film thickness control and …
成膜 NT333™シリーズ | 製品・サービス（製品） | 東京エレクト …
TEL初のセミバッチ式成膜装置NT333™は、従来方式のALDに利用されてきた時間分割式とは異なる独自の成膜手法により、高い品質と生産性を実現しました。 ウェーハは1ステージ上 …
日本半导体制造设备巨头TEL的前生今世 - 知乎 - 知乎专栏
TEL，是Tokyo Electron Limited的简称，是日本最大的半导体制造设备提供商，也是世界第三大半导体制造设备提供商。 主要从事半导体制造设备和 平板显示器制造设备 的研发和生产，全球 …
国内原子层沉积（ALD）研究状况如何？ - 知乎
原子层沉积技术（Atomic Layer Deposition，简称ALD）是 一种将物质以单原子层形式逐层在基底表面形成薄膜的真空镀膜工艺。 早在1974年，芬兰材料物理学家Tuomo Suntola开发了这项 …
TEL Tokyo Electron Deposition NT333™ Series Deposition Tool
NT333™ is TEL’s first semi-batch chamber for ALD (Atomic Layer Deposition). It offers thin film thickness control at the atomic level while providing exceptional film quality and high …
2024年探寻全球涂胶显影设备龙头东京电子（TEL）超高市占率背 …
2024年7月25日 · 东京电子有限公司（Tokyo Electron Limited，TEL）是日本最大的半导体设备制造商，目前市值约 930亿美元（2024.07.23）。 在全球半导体设备制造商中，TEL与美国的应 …
Products and Services(all products) | Tokyo Electron Ltd.
TEL's first semi-batch ALD (atomic layer deposition) system for 300mm wafers. Employing original deposition technique, the system achieves excellent film thickness control and …
逻辑芯片等将驱动ALD设备快速渗透 市场由境外厂商垄断 国产实 …
2024年12月5日 · 原子层沉积（Atomic Layer Deposition，ALD）设备是薄膜沉积设备的细分种类之一。 目前ALD设备在薄膜沉积设备中的占比最小，渗透率远低于CVD设备、PVD设备。 …
ALD/ALE2024 | News Room | Tokyo Electron Ltd.
2024年8月2日 · Tokyo Electron (TEL) is proud to be a Platinum Sponsor of ALD/ALE2024, which will be held from August 4-7 in Helsinki, Finland. This conference will feature presentations on …