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東京エレクトロンの公式サイト。 半導体製造装置、ディスプレイ製造装置などを開発、製造、販売。 企業情報、社会・環境活動情報、IR情報、製品情報、ニュースなどを紹介しています。

TEL's first semi-batch ALD (atomic layer deposition) system for 300mm wafers. Employing original deposition technique, the system achieves excellent film thickness control and deposition as well as uniform film quality in high aspect ratio structures.

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TOKYO ELECTRON（简称 TEL）成立于1963年，是一家半导体设备制造商。 TEL集团在全球有逾1.8万名员工，是东京证券交易所第一部的上市公司。 TEL的产品主要包括涂胶显影设备、热处理成膜设备、干法刻蚀设备、化学气相沉积设备、物理气相沉积设备、电化学沉积设备、清洗设备、封测探针设备以及平板显示干法刻蚀设备等。 TEL在美国、欧洲及亚洲等地构建了自己的全球构架，拥有26家公司和87个分支机构，在全球开展研发。 为了进一步完善全球化经营战 …

TEL ( Tokyo Electron Limited ) 成立於1963 年，為日本最大半導體設備商。為了強化原廠對客戶之服務，並貫徹 Customer Satisfaction 之經營理念，於1996 年在台灣設立分公司。基於看好產業前景及配合公司未來之成長，我們期待具有 ldentity 及世界觀的優秀人才與我們共事。

Tokyo Electron Limited (Japanese: 東京エレクトロン株式会社, Hepburn: Tokyo Erekutoron Kabushiki-gaisha), or TEL, is a Japanese electronics and semiconductor company headquartered in Akasaka, Minato-ku, Tokyo, Japan. [4] The company was founded as Tokyo Electron Laboratories, Inc. in 1963. [7]

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