Take advantage of ZEISS Crossbeam’s modular platform concept and upgrade your system with growing needs, e.g. with the LaserFIB for massive material ablation. During milling, imaging or when performing 3D analytics Crossbeam will speed up your FIB applications.

Electron beam lithography (EBL) is an important technique, which is used to design devices, systems and functional materials at the nano scale. In this miniaturization technique, large-scale products are converted into small-scale structures.

ZEISS Crossbeam offers a complete solution for preparing TEM lamellae, even in batches. The low-voltage performance of the ion-sculptor FIB column supports high-quality lamellae and avoids amorphization of delicate specimens.

Koelle教授合作，研究通过离子束纳米光刻制造的具有约瑟夫逊结的NanoSQUIDS的晶体结构。 使用Gemini电子光学系统从高分辨率扫描电子显微镜（SEM）图像中获取真实的样品信息。 在进行敏感表面二维成像或三维断层扫描时，Crossbeam的SEM性能值得您信赖。 加速电压非常低时也可获得高分辨率、高衬度和高信噪比的清晰图像。 借助一系列探测器实现样品的全方位表征。 使用独特的Inlens EsB探测器获得更纯的材料成分衬度。 研究不受荷电伪影干扰的非导电样品。 …

Join us for this webinar to learn how the ZEISS/RAITH EBL solution with its remarkable reliability driven by unique features such as the Gemini electron optics, the FIB column ZEISS Ion-sculptor, and the RAITH ELPHY attachment, enable the precise design of new materials and devices needed to support the latest advancement needs in ...

Zeiss SUPRA 55 设备简介 表面形貌二次电子成像，微区元素定性、定量分析（EDS），微观组织结构分析（EBSD），微纳加工能力（EBL）。

Zeiss Supra 40VP is for performing electron beam lithography using NPGS. Users are required to demonstrate the imaging skills in Supra 55 VP to begin electron

2017年2月17日 · 电子束曝光技术是一种日益完善的超微细图形加工技术，可以在基片上进行无掩膜直接曝光，具有极高的灵活性，可制作最小尺寸30-100 nm的图形，因此是研制各种超微细结构纳米器件的有力工具。 欢迎各位师生踊跃参加，请于2月19日前发送邮件至 [email protected]报名。 培训时间：2017年2月21日（14:00-18:00） 培训地点：翔安校区文宣楼B504和C107室....

名称：扫描电子显微镜（配EBL附件） 品牌：Zeiss. 型号：Sigma 300. 产地：英国. 参数： 分辨率：1.0 nm @ 15 kV，1.6 nm @ 1 kV； 加速电压：0.02-30 kV； 放大倍率：10-1000000×； 电子束流：4 pA-20 nA； 探测器：In-lens、ETSE、HD BSD； 工作距离：0.1-50 mm； 样品台类 …

This EBL system is composed with a Zeiss Supra 40 field-emission scanning electron microscope and a Raith pattern generator. The Zeiss Supra 40 features electron beam up to 30KeV and provides capability of reproducibly achieving feature sizes as small as 20nm.