Atomic Layer Deposition (ALD) - Semiconductor Engineering
2024年12月17日 · Atomic layer deposition, or ALD, is a manufacturing approach that deposits materials and films in exact places. This can include metals on top of metals, dielectrics on …
ALD在半导体行业应用 - 知乎 - 知乎专栏
2024年1月12日 · 化学气相沉积 (CVD)与物理气相沉积 (PVD)难以满足极小尺寸下良好的台阶覆盖要求，ALD技术以其自限制生长和三维共形性的特点，适合各种复杂基底，被广泛应用于半导 …
ALD - Advanced Linear Devices Analog Semiconductor Manufacturer
Welcome to ALD Advanced Linear Devices Inc. designs, develops, and manufactures precision CMOS analog integrated circuits for OEMs in a broad spectrum of industries, including …
Overview of ALD applications for advanced CMOS technology
Abstract: Atomic Layer Deposition (ALD) is being used for many applications in advanced CMOS technologies, e.g. hi-k materials as gate dielectric, metal materials as metal gate electrode, …
ALD，是什么？盘点ALD技术在半导体制造中扮演重要的角色
2023年7月10日 · 相比之下，原子层沉积 (ald) 技术在精度、均匀性、成分控制和复杂结构制备方面的优势使其成为当今半导体制造和纳米技术领域的重要工具，为高性能和高可靠性的器件制造 …
ALD技术原理、技术特征及其在半导体先进制程的应用_苏州欣溪源 …
该技术可以将物质以单原子薄膜的形式一层一层镀在衬底表面，与普通的化学沉积有相似之处，但在原子沉积的过程中新一层原子膜的化学反应是直接与上一层相关联的，这种方式使每次反应 …
CC扩产预期，北方华创和拓荆的ALD设备能做什么？ - 雪球
2025年3月21日 · ALD设备可实现芯片制造工艺中关键尺寸的精度控制，在结构复杂、薄膜厚度要求精准的先进逻辑IC、DRAM和NAND Flash中是必不可少的核心设备之一。 在ALD领域， 拓 …
半导体中为什么会用到ALD工艺？ - 知乎专栏
ALD技术特别适合复杂形貌、高深宽比沟槽表面的薄膜沉积，被广泛应用于High-K栅介质层、金属栅、铜扩散阻挡层等半导体先进制程领域。 ALD镀膜的最大优势在于台阶的覆盖性，如下图 …
半导体设备：ALD设备在半导体制造中的重要性和未来发展趋势（3…
2023年7月27日 · ald 技术在逻辑和存储领域得到广泛应用， pecvd 无法替代 ald 在存储领域的优势。 2023 年可能是国产 ald 设备量产的起点，存储领域需求量更大。铪和锆是主要的 ald 材 …
拓荆科技：三大新产品系列助力半导体制造创新突破 落实“技术引 …
5 天之前 · 新品发布会透露，当前，在ald系列领域，拓荆科技在国内取得了ald设备装机量第一、ald薄膜工艺覆盖率第一等成绩。 在3D-IC及 先进封装 系列领域， 拓荆科技 实现国产键合领 …