az p1350光刻胶应用于光罩制造及光媒介原盘制造的旋涂正型光刻胶。az p1350光刻胶是为了需要高附着性的工艺而研发，也适用于cd,ld,vcd 等光盘的制造。

AZ系列光刻胶主要是为 i线, G线光刻 而设计的。 当暴露于 紫外光源 时，其分子结构会发生改变，从而实现图案的转移。 AZ系列光刻胶足够满足一般的科研与生产需求。

az p1350系列 应用于光罩制造及光媒介原盘制造的旋涂正型光刻胶 Positive-tone Photoresist for Photo-mask & Stamper of Photo-media by Spin Coating

AZ P1350系列—应用于光罩制造及光媒介原盘制造的旋涂正型光刻胶—Positive-tone Photoresist for Photo-mask & Stamper of Photo-media by Spin Coating. 液晶显示器/平板显示器用光刻胶系列

・AZ P1350／AZ1500 ・AZ P4000 Series ・AZ MIR-700 series ※ご支給レジストでのコートに関する御相談も承ります。

These thick film coatings are also used as protective films for dust prevention while cutting and processing wafers and other materials, in addition to creating molds with fine surface treatments, such as multifunctional films and microlens arrays.

通用正性光刻胶，具有出色的基材附着力，适用于要求苛刻的湿法蚀刻应用。 • 快速实现高吞吐量. • MIF 或 IN 开发人员兼容性. • 安全溶剂. • 旋涂厚度从 0.5 到 6µm. • 提供染色和未染色版本. 曝光后烘烤：可选. * 使用较高的软烘烤温度。 基材必须清洁、干燥且无有机残留物。 在涂覆 AZ 1500 之前，应使用 HMDS（六甲基二硅氮烷）或其他合适的底漆对氧化物形成基材（Si 等）进行底漆处理。 有关使用 HMDS 进行预处理的详细信息，请联系我们。 AZ 1500 系列抗蚀剂与所有常见 …

2020年2月3日 · 高感光度，高产出率，高黏着性，适用于湿法腐蚀工艺，广泛应用于全球半导体行业。 高分辨率，耐刻蚀，垂直性好，可反转成负胶，做lift-of工艺，制作电极。 高陡直性，高粘着性，高分辨率，耐刻蚀，适用TSV工艺。 下一篇： 没有了！

2017年4月13日 · Process Condition Et h (m j/c m 2 ) 为广泛应用于半导体制造领域而优化的高感光度G线正型光刻胶 1) 高感光度,高产出率 2) 高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进 3) 广泛应用于全球半导体行业 前烘 ：100℃ 60秒 (DHP) 曝光 ：G线步进式曝光机/接触式曝光机 显影 ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒 Puddle 清洗 ：去离子水30秒 后烘 ：120℃ 120秒 (DHP) 剥离 ：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化 产品特性 (PRODUCT PERFORMANCE) AZ 1500 系列光刻 …

az_pr光刻胶的数据资料 ... az dx3200p系列az dx5200p系列az p4000系列az 10xt系列az plp系列az aquatar系列aquatar-Ⅷ系列az barc材料az relacs涂布材料az 8100系列az p1350系列az tfp300系列az tfp600系列az sfp系列az sr系列az rfp系列az ctp系列目 ...