2025年1月26日 · 深紫外曝光技术（Deep Ultraviolet Lithography, DUV）是通过使用波长在2000~3000埃的光源来提高光刻图形的分辨率。 相比于传统的 4 000埃左右的 紫外光 ， 深 …

半导体光刻胶根据曝光光源波长不同来分类，分别是 紫外全谱 (300～450nm)、 G 线 (436nm)、 I 线 (365nm）、 深紫外 (DUV，包括248nm和193nm)和 极紫外 (EUV)，相对应于各曝光波长 …

2021年12月21日 · DUV：深紫外线（Deep Ultraviolet Lithography） EUV：极深紫外线（Extreme Ultraviolet Lithography） 一、DUV技术由日本和荷兰独立发展： ArF干法后期两大路径之 …

EUV, DUV, XUV 以及 UV, VUV 都是电磁波波段分类的简称。 XUV：0.1～10nm. （3）注意：波长不是分辨率！ 他们之间的关系是 分辨率=k*波长/NA. NA是数值孔径；k 是常数，由成像系 …

2024年4月18日 · duv (248纳米至193纳米)，如arf激光波长的193纳米，主要在光刻工艺中用于制造更精细的半导体器件。 XUV (0.1到10纳米) ，这个区间极其微小，通常在高能物理和材料科 …

下面我们分别选择一款DUV和EUV光学系统，进一步探秘他们的光学设计。 DUV光刻系统实例： 文献信息： 美国专利-US20100323299A1. 厂家：Carl Zeiss. 波长：DUV -193.304nm. 类 …

2022年1月21日 · DUV(深紫外光) 這可是市面上最多的曝光機種類，波長從248nm到193nm，他們已經算是成熟的產品了，而且主要適用的範圍也是成熟的製程，極限也大約是在60nm。

2024年9月20日 · DUV 光刻机，全称为深紫外光 光刻机 （Deep Ultraviolet Lithography Machine），是用于制造 半导体 芯片 的设备之一。 它使用深紫外光（波长通常为193纳米） …

深紫外（DUV，波长λ < 200 nm）非线性光学（NLO）晶体是变频产生深紫外激光的核心部件，在尖端激光技术和基础科学中发挥着重要作用。 近三十年来，深紫外非线性光学晶体领域的实 …

2023年4月16日 · 上一篇小哥里，我们讨论了蔡司光学如何构建duv光刻光学系统的基本概念，以及如何拓展到高数值孔径镜头的设计。 整整120年前的1902年，国外蔡司科学家Moritz von …