深紫外光（Deep Ultraviolet, DUV）和极紫外光 ... - CSDN博客
2025年1月26日 · 深紫外曝光技术（Deep Ultraviolet Lithography, DUV）是通过使用波长在2000~3000埃的光源来提高光刻图形的分辨率。 相比于传统的 4 000埃左右的 紫外光 ， 深 …
DUV和EUV光刻机的区别在哪？--科普知识 - CAS
2021年12月21日 · DUV和EUV最大的区别在光源方案。EUV的光源波长为13.5nm，但最先进DUV的光源波只有193nm，较长的波长使DUV无法实现更高的分辨率，因此DUV只能用于制 …
光刻胶g线、i线、KrF、ArF、EUV，到底是在说什么 - 知乎
EUV也就是极紫外光刻胶，使用波长为13.5nm的紫外光，可以用于10nm以下的先进制程，但目前EUV光刻机只有荷兰ASML能制造。 在当下这个2021年，正处于EUV光刻技术诞生，已经流 …
EUV, DUV, XUV 有什么区别？对应的波长分别是多少？ - 知乎
EUV, DUV, XUV 以及 UV, VUV 都是电磁波波段分类的简称。 XUV：0.1～10nm. （3）注意：波长不是分辨率！ 他们之间的关系是 分辨率=k*波长/NA. NA是数值孔径；k 是常数，由成像系 …
EUV?DUV?什麼是曝光機(光刻機)，一看就懂超簡單 - Blogger
2022年1月21日 · duv(深紫外光) 這可是市面上最多的曝光機種類，波長從248nm到193nm，他們已經算是成熟的產品了，而且主要適用的範圍也是成熟的製程，極限也大約是在60nm。
DUV和EUV光刻机的区别在哪？ - 知乎专栏
DUV和EUV最大的区别在光源方案。EUV的光源波长为13.5nm，但最先进DUV的光源波只有193nm，较长的波长使DUV无法实现更高的分辨率，因此DUV只能用于制造7nm及以上制程 …
什么是DUV光刻机？DUV光刻机的工作原理 - 2743.com
2024年9月20日 · DUV 光刻机，全称为深紫外光 光刻机 （Deep Ultraviolet Lithography Machine），是用于制造 半导体 芯片 的设备之一。 它使用深紫外光（波长通常为193纳米） …
光与影的对白——浅析DUV光刻机 - 少数派
2024年10月19日 · 光源产生duv，照射在掩模上。 从掩模到晶圆表面，这中间需要经过极为复杂的光路，即投影光路。 投影光路设计主要有两大类：折射式设计与反射式设计，后者主要用 …
中国光刻机技术咋样了？DUV与EUV差在哪里？造出DUV就能造EU…
2023年2月24日 · duv主要利用光的折射原理，通过浸没式光刻机会在投影透镜与晶圆之间，填入去离子水，使得193纳米的光波等效至134纳米。 而EUV利用的光的反射原理，由于使用的光线 …
EUV, DUV, XUV 有什么区别？对应的波长分别是多少？_百度知道
2024年4月18日 · DUV (248纳米至193纳米)，如ArF激光波长的193纳米，主要在光刻工艺中用于制造更精细的半导体器件。 XUV (0.1到10纳米)，这个区间极其微小，通常在高能物理和材料科 …