EVG ® 620 NT - EV Group
Known for its versatility and reliability, the EVG620 NT provides state-of-the-art mask alignment technology on a minimized footprint area combined with advanced alignment features and …
EVG ® 620 NT - EV Group
Known for its flexibility and reliability, the EVG620 NT provides state-of-the-art mask alignment technology on a minimized footprint. Operator-friendly software, minimized time for mask and …
The EVG620 NT Gen2 and EVG6200 NT Gen2 mask aligners are exemplary production systems for wafer sizes up to 200 mm. The systems provide state-of-the-art mask alignment technology …
EVG®620NT 光刻机：掩模对准系统（半自动/自动）_参数_价格
evg620 nt 或完全容纳的 evg620 nt gen2 掩模对准系统配备了集成的隔振系统，可在各种应用中获得出色的曝光效果，例如对薄而厚的抗蚀剂进行曝光 ，对深腔进行构图以及可比较的形貌。 …
EVG 620NT光刻机_亚科电子
evg 620nt是一款通用性和可靠性强的光刻机，提供先进的掩膜对准技术。 可选择半自动或全自动配置，满足大批量生产和Fab标准。 主要特点及参数：
自动光刻机 - EVG®620NT - EV Group - 晶圆 - DirectIndustry
EVG® 620 NT 提供最先进的掩模对准技术，最小化的占地面积可达 150 mm 的晶圆尺寸。 EVG620 NT 因其多功能性和可靠性而闻名，在最小的占地面积上提供了先进的遮罩对准技术， …
EV Group EVG620掩模对准机 - Labinstru
EVG 620 NT在最大150mm晶圆尺寸的最小化占地面积上提供最先进的掩模对准技术。 它是光学双面光刻的理想工具，可采用半自动或自动化配置，配备了集成振动隔离功能，可在各种应用中 …
EVG®620NT 光刻机：掩模对准系统（半自动/自动）
EVG®620NT掩模对准系统（半自动/自动）在最小的占位面积上提供最先进的掩模对准技术，支持半自动或自动配置及全外壳Gen 2解决方案，适用于大批量生产和制造标准。 该系统具备高效 …
EVG® 620NT SmartNIL®UV纳米压印光刻系统 - 仪器信息网
具有UV纳米压印功能的通用掩模对准系统，采用EVG专有的SmartNIL®技术，最大可达100 mm. 技术数据. EVG620 NT以其灵活性和可靠性而著称，以最小的占位面积提供了最新的掩模对准 …
UV-NIL光刻系统 - UV/EVG®620 NT - EV Group - DirectIndustry
evg620 nt 因其灵活性和可靠性而闻名，以最小的占地面积提供最先进的遮罩对准技术。 操作员友好的软件，最大限度地缩短了掩模和工具更换的时间，以及高效的全球服务支持，使其成为任 …