ExpertTM以全自動化的方式，經由氣相分解法（VPD），將晶圓（6吋、8吋、12吋、18吋）表面金屬不純物，以雙氧水與氫氟酸的混和液收集於液滴中，再經由自動取樣器進入感應耦合電漿質譜儀(ICP-MS)，進行後續各不純物元素計量。

Expert™_FAB は、 半導体製造工場における自動搬送装置 （OHT）と組み合わせた 全自動分析用のモデルです。 ICP-MSが装置内に組み込まれた特殊な仕様で、 24時間365日の全自動分析の実現に最適です。

Expert™: Auto Scanning System - Fully Automated VPD-ICP-MS. More than 100 units are in operation at semiconductor industry Fabs and QA labs around the world. This is an innovative pretreatment system connected with ICP-MS to achieve fully automated analysis of metal impurities in Si wafers and others.

ExpertTM FAB是专门为14nm以下最先进IC制程以及有特殊安全设置要求的IC厂定制的全自动化型号，针对半导体 FAB内的安全规范要求和无人化操作要求而设计，其中ICPMS/MS检测器已一体化整合安装在系统的超净箱体内，保证不受外界环境的影响。晶圆的传送也是由OHT吊车实现。运行程序控制以及数据传输由SECS软件以及中央数据系统实行，实现完全无人值守和机台前无人操作, 机台的后续维护也是由厂家工程师负责，是目前抗污染最高等级的 VPD-ICPMS/MS系统。 晶 …

ExpertTM はSi ウェーハ中の金属不純物をICP-MS で自動分析するための前処理装置として開発されました。 半導体製造過程において金属汚染管理は非常に重要な項目です。 全反射蛍 …

The Radian VPD-ICPMS (Vapor Phase Decomposition) is a high-throughput, completely automated production tool for online monitoring of metal contamination on semiconductor wafers with ultra-low detection limits. The Radian’s single process station design, ultrafast scanner, and fully integrated ICPMS makes it the fastest, most automated Vapor ...

通过使用半导体行业标准协议SEMI E84与桥式起重机运输(OHT )进行通信,Expert_PS VPD系统旨在与半导体制造工厂中的SEMI 设备通信标准(SECS)、制造设备通信和控制通用设备模型(GEM300)以及自动物料搬送系统(AMHS)兼容。 FOUP 由运载并装载到一个装载端口上。 OHT Expert_PS读取FOUP ID ,然后进行夹持和对接,并在FOUP门打开的同时映射硅晶片槽。 映射信息和FOUP ID 被发送到CIM- HOST,以验证槽映射信息并为每个硅晶片分配处理程序编号。 CIM …

To improve the detection capability of the analysis, vapor phase decomposition (VPD) was developed as a pre-concentration technique for TRXF. The VPD technique is a destructive technique that utilizes the reaction chemistry of HF with Si and films deposited on an Si substrate.

VPD 设备与 ICP-MS 一体化集成技术先进，同类产品占地面积小；设备内部全封闭设计无尘等级 CLASS1，测试液通过密闭系统直接输送进入 ICP-MS，降低了污染的可能性； 3. 晶圆表面金属元素检测范围广，元素检测精度高（12 寸晶圆超低检出限 -1E7 atoms/cm2)，元素回收率 90%-110% 4. 低化学品消耗：自动配制扫描溶液及清洗溶液，溶液使用量准确定制，大大提升了化学品的使用效率； 5. 用于工艺设备金属污染在线监控，提升和确保生产良率； 6. 支持天车自动上下晶圆。

In this study, a fully automated VPD-ICP-MS system comprising the IAS Expert PS (IAS Inc., Hino, Tokyo, Japan) integrated with an Agilent 8900 ICP-QQQ was used. The automated VPD-ICP-MS/MS method was evaluated by deliberately contaminating the Si wafer surface with known amounts of trace elements and measuring the recoveries in the VPD scan ...